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【京都】第一工業製薬は大潟事業所(新潟県上越市)にセルロースシングルナノファイバーによる増粘剤「レオクリスタ」の実証設備を完成した。... 同増粘剤は繊維幅が10ナノメートル未満のセル...

その一つが絞り金型の寿命を従来比5―10倍に延ばす独自の「超硬合金に対する放電レス加工」だ。... 10ナノメートルレベルの加工が可能なマシニングセンター(MC)など精密加工機2台を、...

微細化についても線幅10ナノメートルまでは見通せており、さらに10ナノメートル以下にも対応できそう。

現状では技術的には線幅7ナノメートルまでは可能。経済合理性を考慮した場合でも同10ナノメートルまでは微細化できる」 ―次のウエハーの大口径化も重要な転換点となります。 ...

岡村教授は高分子強誘電体を厚さ10ナノメートル(ナノは10億分の1)という超薄膜で作製することに成功した。

これらの課題をどう解決し、半導体の線幅15ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細化に道筋を付けるか。... ニコンの先端装置は業界最高レベルの精度を達成しており、牛田一雄副社長は...

情報通信研究機構は3日、産業技術総合研究所、上智大学、学習院大学と共同で、量子情報通信の実現に不可欠なスクィーズド光源を開発し、従来比10倍以上の帯域を持たせることに成功したと発表した。... 波長幅...

これを細胞接着性たんぱく質であるフィブロネクチンとゼラチンの溶液に交互に浸す交互積層法を9回行い、厚さ10ナノメートルの薄膜を細胞表面に形成。

ファインバブルと呼ばれるナノオーダーの極小サイズの気泡と酸性電解水を混合させ、浸透力を高めるのが特徴。... 同時に10ナノメートル(ナノは10億分の1)から300ナノメートルの極めて...

東洋アルミニウム(大阪市中央区、山本博社長、06・6271・3151)は、表面粗さが10ナノメートル(ナノは10億分の1)と同社従来品の5倍の高平滑アルミニウム箔「LU...

大ガスは粒径が10ナノ―40ナノメートル(ナノは10億分の1)の酸化チタン粒子(チタニアナノ粒子)にルテニウムなどの有機物を色素として吸着させ、色素が太陽光を電気に変換...

最小加工寸法は世界最高レベルの10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下で、従来のヘリウムや水素のイオンビームの5分の1。... 半導体のマスク材料に用いられるモリブデン・シリサイド膜...

最大ビーム電流を従来機比50倍の100ナノアンぺアにしたほか、100メガヘルツの可変クロックを採用して最速スキャン速度を1ドット当たり60ナノ秒から同10ナノ秒に短縮。

【京都】第一工業製薬は21日、大潟事業所(新潟県上越市)内にセルロースシングルナノファイバーを利用した増粘剤「レオクリスタ」の実証設備の建設を始めたと発表した。... 生産能力は年数1...

京都大学大学院工学研究科の山田啓文准教授、同白眉センターの小林圭特定准教授らの研究グループは、パナソニックと共同で、周波数変調原子間力顕微鏡(FM―AFM)を用い、Y字型構造をした10...

10ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の先端半導体向けに採用を働きかける。 ... 次世代技術の極端紫外線(EUV)リソグラフィーの普及が遠のく中...

現在、世界に先駆けチップ回路線幅10ナノメートル(ナノは10億分の1)を開発中。... 凸版グループ全体では62人おり、当工場にはフォトマスク修正技能士とマスクブランク製造技能士の2人...

産業技術総合研究所は、シート状の炭素材料「グラフェン」を使い、幅20ナノメートル(ナノは10億分の1)の超微細配線を作製する技術を確立した。... 抵抗率は銅配線と同程度で、250度C...

別の基板で作製したCNTを、配線用基板に作製した直径100ナノ―300ナノメートル(ナノは10億分の1)の小さな穴に転写・挿入して配線化する。従来法に比べ、約10倍電気を通しやすい。....

直径300ミリメートルウエハーに対応、線幅10ナノメートル世代の微細な半導体製造用途をにらんで開発した。

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