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記事検索結果
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半導体の微細化にはレジストの技術革新が不可欠であり、またレジストメーカーにとって最先端品は利益の源泉でもある。... ArF対応レジストの価格はi線対応レジストの約10倍という。... やはりレジスト...
【水戸】生体分子計測研究所(茨城県つくば市、岡田孝夫社長、029・839・4611)は24日、半導体先端テクノロジーズ(セリート、つくば市)と共同で、アルカリ現像液中の...
波長が500ナノ―450ナノメートル(ナノは10億分の1)の青いLEDを使えば紫外線硬化樹脂やレジスト剤の反応を防げる。
【環境負荷小さく】 日本ゼオンが開発した半導体用の新エッチングガスは、環境負荷が小さく、少ないレジストで微細な配線加工が可能なため引き合いが増えている。... 環境負荷を小さくするにも、レジス...
大日本スクリーンは半導体製造装置の研修拠点「グローバルトレーニングセンター」(滋賀県野洲市)に洗浄装置やレジスト塗布現像装置、フラッシュランプアニール(熱処理)装置など...
フォトレジストでは、最先端技術である液浸露光用フッ化アルゴンレジストの売り上げ拡大を見込む。同社では同レジストのシェアを40%程度と見ている。液浸露光で製造する回路線幅32ナノメートル世代以降...
東洋インキ製造は2011年3月期の設備投資計画に、中国での液晶カラーフィルター用レジストインクの工場建設を織りこんだ。... 守山製造所(滋賀県守山市)から顔料分散体を供給し、中国でレ...
なお同レジストを使い、ハーフピッチで26ナノメートル(ナノは10億分の1)の加工に成功した。... 自己架橋型フォトレジストは、加熱処理により材料が硬化し、2回目の露光用レジストが不要...
プリント基板製造用ドライフィルムレジスト(フィルム状の感光性樹脂)や現像液などの高純度化学薬品を製造し、欧州で販売していたが、04年12月期から連続で最終赤字になるなど、業績不振が続い...
分子サイズ2ナノメートルの環状化合物を基盤とした低分子レジストを用いて線幅のがたつきを抑え、高い解像度を実現。... 分子が小さいため、従来の高分子レジストで高解像の妨げとなっていた鎖状の分子が絡まっ...
紫外線硬化性のレジスト剤を用い露光機で加工パターンを転写する。... パターン転写の寸法精度や、板材の表裏面へのレジスト剤パターンの位置決め精度が向上し、高精細加工の量産が可能になった。
栗田工業は半導体製造のレジストはく離工程で使う薬液の使用量を、大幅に減らす電解硫酸製造装置(写真)を開発した。同装置で生成した過硫酸をウエハー上のレジストはく離に使うことで、従来必要だ...
JSRは25日、2009年春に四日市工場(三重県四日市市)内に完成した先端リソグラフィー材料の新工場を稼働し、フッ化アルゴンレジストの出荷を始めたと発表した。... 40ナノメートル&...
従来開発済みだったポジ型に加えて、より高解像度に向いたEUV世代対応のネガ型レジストを開発した。 性能の指標となるラフネス(ラインの乱れ)とエッチング耐性(削れにくさ&...
配線材料をあらかじめ敷きエッチングするサブトラクティブ工法と比べ、材料を積み上げる同工法は材料高さをそろえることが難しいが、感光性ポリイミドを用いて厚さの調整をし、多様なレジストパターンで配線自由度を...
曲面にメッキで模様を施すには、平面の状態でレジストを塗布してメッキ加工し、後でプレス加工する方法がある。... 同社は一般的にレジストの塗布に使うスクリーン印刷用より乾燥速度が速く、転写性がパッド印刷...
