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記事検索結果
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ニコンとキヤノンはセリートと、ASMLはベルギーのIMECとそれぞれ共同で、光源出力やマスクの欠陥、感光剤(レジスト)など、EUV露光の技術課題の克服に取り組んでいる。
代替ガスはヨウ化トリフルオロメタンで、100ナノメートル(ナノは10億分の1)ピッチ配線の多層レジストのエッチングに使った。
【分割して出荷】 レジスト塗布装置、露光装置、ガラス基板搬送装置など、同社の液晶関連の主力製品は次世代サイズに対応するため、大型化しつつある。
光学系のノイズが少ないため「レジストのみの特性が評価できる」(渡邊健夫准教授)。... また同研究所が手がける新規レジストの開発も加速する。... 実験ステーションの完成で独自のレジス...
【立川】ナノシステムソリューションズ(東京都多摩市、芳賀一実社長、042・339・8440)は、高価なグレースケールマスクなしに膜厚レジストの3次元加工ができる研究用露光装置「D―li...
微小電気機械システム(MEMS)用の集積回路(IC)や無線識別(RFID)などは、加工でレジストマスクを要するためコスト高になる。
同じく、セリートはキヤノン製の「SFET」とニコン製の「EUV1」を導入し、遮光材(マスク)や感光剤(レジスト)、光学性能などの研究開発を手掛けている。 ......
技術課題の解決策の一つとして考えられているのが、ウエハー上に塗布するフォトレジストを凍結する「レジストフリーズ」法だ。1回目の露光でレジストパターンを凍結させ、直後に2回目の露光を実施する。
光の回折を制御しやすいハーフトーンタイプは、電子ビームによる描画とエッチング、レジスト除去工程を遮光部とハーフトーンそれぞれで行う必要がある。
半導体製造工程におけるレジスト除去を真空下の光線照射で実施し、ウエハー表面が被る物理的ダメージを防げる画期的な技術だ。
【市村産業賞・功績賞】▽「SUS304代替Ni、Moフリー21%クロムステンレス鋼の開発」(JFEスチール)▽「最先端LSI製造用ArFレジスト材料の開発」(NEC&#...
【神戸】兵庫県立大学と赤穂化成(兵庫県赤穂市)は11日、大学発のベンチャー企業として半導体の回路パターン作成などに用いる新規レジスト材料の開発・製造を行う、イーユーブイアドバンストテク...
露光の前工程として、異なる形状の3次元構造体をつくるドライフィルムレジスト(DFR)張り付け装置の受注を開始。... スピンコーターやスプレーコーターで液体レジストを塗布する従来手法で...
