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量子科学技術でつくる未来(25)超省エネスマホリソグラフィ技術（2021/11/25 科学技術・大学）

この電子回路を作るために不可欠な技術がリソグラフィ技術だ。 ... リソグラフィ技術では、光の波長が回路の微細化・集積化のカギを握る。量子科学技術研究開発機構(QS...

富士フ、24年にEUVレジストのシェア10%へ（2021/1/5 素材・医療・ヘルスケア）

EUVを用いたリソグラフィ技術に関しても、需要増が見込まれる。

厚さ10分の1の固体電解質シート、全固体電池に応用大阪技術研（2020/10/15 総合１）

量産技術もめどをつけた。... 同シートはベースとなる樹脂フィルムに、感光材料を利用しパターンを生成するリソグラフィ技術で微細な孔を開け、硫化物系の固体電解質粉末を充填させ、加熱・加圧処理を施して作製...

大日印、5ナノ対応 EUVリソ向けフォトマスク技術開発（2020/7/11 総合３）

大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。...

長瀬産業、グループ会社が光学部品開発で協業（2020/3/19 国際・商社）

生産にあたっては、ショットの高屈折ガラスウエハー、インクロンの高屈折ナノインプリントコーティング材、EVGのナノインプリントリソグラフィ技術、ウェーブオプティクスの光導波路の設計ノウハウなどを組み合わ...

コアテクノロジー・光ビーム活用/EUVによる次世代半導体技術（2014/12/22）

しかし半導体製造で主流の露光装置により回路パターンを描写する技術は、理論的限界値を迎えつつある。... 同社が現在挑むのが次世代半導体の露光技術であるEUVリソグラフィの開発だ。... EUVは13・...

半導体リソグラフィー技術は半導体集積回路の微細化、高集積化をけん引してきた中心的な技術だ。... リソグラフィー技術を支えるマスク、レジスト、計測評価の各技術についても詳しく解説している。 &...

JSR、EUV向けレジストで良好な加工性を確認（2011/2/25）

JSRは24日、次世代の極紫外光(EUV)を使った半導体露光技術に対応したエッチング用フォトレジストで良好な加工性を確認したと発表した。感度と解像度、パターンの粗さの3点のバランスにつ...

材料科技振興財団、山崎貞一賞に安藤氏ら5人（2010/9/29）

材料科学技術振興財団(増島勝理事長)は、第10回山崎貞一賞の受賞者に、原子間力を使い高速で動作する顕微鏡を開発した金沢大学の安藤敏夫教授ら4分野5人を選んだ。... 【材料分野】武知敏...

大日印、米社とテンプレート複製装置を開発へ（2009/7/2）

大日本印刷は1日、米モレキュラーインプリントと回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の次世代半導体製造技術として有望なナノインプリントリソグラフィ技術の実用化に必要な、テン...