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記事検索結果
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ニコンは回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の半導体製造プロセスに採用するフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の新機種「S620」の出荷を...
EUV装置に経営資源を集中するASMLに対し、ニコンはフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の改良機に注力する。... EUV装置はArF液浸露光装置とはまったく異なる機...
主力のフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置と同じく、EUVにも相当額の経営資源を投下する。... 「今年出荷した2回露光(ダブルパターニング)方式のAr...
露光装置などの製造設備を大きく変更しなくても32ナノから20ナノ台に微細化できる見通しをつけた。... 微細化の鍵を握る露光装置はフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置で...
ガチガチの特許の会社というイメージも強いが、従来はそれで成功してきたが今後はこのままではいけない」 ―既存事業では次世代の半導体露光装置開発も注目です。 「ArF液浸露光装置がうまくい...
当面、フッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の新型機種「S620」の改良に経営資源を集中する。 ... 線幅22ナノメートル以降でEUV露光装置を見据えている。&...
既存の50ナノメートルプロセスの製造装置を活用して、当初投資額を最小限に抑える。... 50ナノや40ナノ台DRAMを生産するには、1台当たり40億―50億円のフッ化アルゴンエキシマレーザー(...
東京エレクトロンは合志事業所(熊本県合志市)に、オランダのASML製ArF(フッ化アルゴンエキシマレーザー)液浸露光装置を今秋導入する。... ArF液浸露光装置の価格...
(藤木信穂) 【業界標準材料に】 開発したフッ化アルゴン(ArF)レジストは波長193ナノメートル(ナノは10億分の1)のArFエキシマ...
エルピーダは、広島工場にASMLのArF液浸露光装置を1台導入した。... エルピーダは当初、ASMLとキヤノンからArF液浸露光装置の提供を受けて技術評価を実施していた。... ArF液浸露光装置は...
同30ナノメートル世代では、半導体回路をウエハーに焼き付ける露光工程に2回露光(ダブルパターニング)を採用する。ダブルパターニングは1台当たりの装置費用が高価なフッ化アルゴン(...
露光装置業界の標準的な技術開発計画(ロードマップ)では同32ナノメートルの半導体製造までダブルパターニング技術を用いて、2013年に実用化を予定する同22ナノメートル半導体には極端紫外...
ニコンは2010年をめどに半導体露光装置で投影レンズの設計を変更し、露光時の明るさを表す開口数(NA)を現行機種の1・30から物理限界の1・35に引き上げる。... ニコンは09年10...
オランダのASMLは2010年に、光源に極端紫外線(EUV)を採用した半導体露光装置「NXE 3100」を市場投入する計画を明らかにした。... EUV露光装置はニコンとキヤノ...
半導体露光装置メーカー3社が開発を進めている回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)の次世代半導体に対応した新型露光装置の概要が明らかになった。3社ともに開発リスク軽減と費用抑制...
今後、先端半導体を製造する液浸技術を搭載した露光装置の販売が本格化し、従来以上に技術サポートが重要になることもあり、直販に切り替える。 ... 日本市場ではニコンやキヤノンなど国内露光装置のシ...
また、投影レンズとウエハー間に純水を満たして明るさを表す開口数(NA)を向上する液浸露光を採用する。 露光を2回実施するダブルパターニングは従来のArF液浸露光装置で製造すると...
