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記事検索結果
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IBMは日立のほかに東芝と32ナノメートルの基礎研究をしており、これを相補型金属酸化膜半導体(CMOS)製造プロセス技術に拡大、実用化への研究開発を進めている。
同MPUは切手サイズの場所にスイッチ機能を担う金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)を7億個以上も集積している。同45ナノメートルでは、回路微細化と高集積化を実現するため...
だが、金属酸化膜電界効果トランジスタ(MOSFET)など独自技術のものは、技術流出の恐れがあるため自社で生産する。
また金属材料のナノ加工技術は、金属基材を厚さ10ナノ―20ナノメートル(ナノは10億分の1)の酸化膜で覆い、数ナノメートル間隔に電子ビームやイオンビームを照射。
「デジタル一眼レフカメラ用の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーや、携帯電話でも画素数300万以上あるものの需要が拡大。
通常の真空成膜装置と同じ放電周波数で微結晶シリコンを毎秒1・2ナノメートル(ナノは10億分の1)の高速で成膜できる。放電電力を有効活用して膜厚の均一性を向上させ、1・1×1・...
日立製作所は、家庭でハイビジョン映像など大容量の情報を無線伝送できる60ギガヘルツ(ギガは10億)帯のミリ波通信に使う、安価な相補型金属酸化膜半導体(CMOS)を使った...
松下電器産業は5日、金属酸化膜半導体(MOS)イメージセンサーの撮像可能な明暗比(ダイナミックレンジ)を1000万倍にする回路技術を開発したと発表した。
卓上ロボットや電動サーボプレス機は、横滑り防止装置(ABS)などの自動車部品や相補型金属酸化膜半導体(CMOS)カメラモジュールなどカメラ付き携帯電話部品の組み立て向け...
富士通研究所(川崎市中原区、村野和雄社長、044・754・2613)は、大規模生産できる相補型金属酸化膜半導体(CMOS)を使って、77ギガヘルツ(ギガは10億...
ソニーは30日、デジタル一眼レフカメラ用に、35ミリメートルフィルムと同じサイズで有効画素数が2481万の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーを開発したと発表した。
有効画素数1220万画素の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーと映像エンジン「DIGICIII」を採用して画質を高めた。
トランジスタやパワーMOSFET(金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ)といった半導体などグループ各社が独自に事業展開する製品も、コーデンシ主導で日本で求められる水準の品質保証体制を構...
波長900ナノ―1700ナノメートルの近赤外域に感度を持つ化合物半導体製受光センサーと、独自開発のシリコン相補性金属酸化膜半導体(CMOS)を組み合わせた。
数ナノメートルの膜厚で効果があり、微細化にも影響しない。... その方法とは、レジストパターンの表面にシリコン酸化膜をコーティングし、最後にパターンの側面をコーティングしているシリコン酸化膜だけを残し...
【名古屋】エルモ社は9日、撮像素子に従来の1・6倍となる135万画素の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載し、64倍ズームが可能な資料投影装置「書画カメラP30S=...
