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高純度化研、DRAM用ストロンチウム化合物を発売（2009/7/14）

新発売のストロンチウム化合物は、CVDの一種「アトミック・レイヤー・デポジション(ALD)」で成膜する。... もともとストロンチウム化合物は「THF化合物としてのみ安定する性質」&#...

東芝、次世代LSI向けトランジスタ絶縁膜の積層技術開発（2009/6/16）

誘電率の高いゲート絶縁膜とゲルマニウムのチャネルとの間に、数原子層のストロンチウムなどを積んだ膜を挿入する。

第36回環境賞(1) （2009/5/27）

一方、塗装鋼板については、02年より研究開発に着手し、下地クロメート処理およびプライマーコートの塗料に含まれるクロム酸を含む黄色顔料(ストロンチウムクロメート)などに替わる処理技術を見...

宇部マテリアルズ、エレ新素材開発を加速（2009/3/12）

積層セラミックコンデンサーの材料では、既存の超高純度炭酸カルシウムに加え、高純度の炭酸ストロンチウム超微粒子も開発。

今回使った鉄系物質は酸素を含まない層状のヒ素化合物(ストロンチウム鉄2ヒ素2)。

物質機構、可視光で有機汚染物質を分解できる光触媒を開発（2008/7/22）

チタン酸ストロンチウム25%とニオブ酸銀75%を、2種類以上の酸化物半導体を反応・固溶させる「固溶体合成法」を使い原子レベルで合成した。

宇部マテリアルズは4日、電子部品に使われる高純度炭酸ストロンチウムで、従来より粒子が小さく分散性に優れたものを開発したと発表した。

保護膜には酸化マグネシウムに代わって酸化ストロンチウム・カルシウムなど複数の材料を検討している。

理化学研究所放射光科学総合研究センターの辛埴(しんしぎ)チームリーダー、石田行章基礎科学特別研究員らは、透明な酸化物半導体であるチタン酸ストロンチウムに存在する“伝導しない電子”の仕組...