富士フイルムは先端半導体の製造で使う極端紫外線(EUV)向けフォトレジストとEUV現像液を発売した。... 併せて、静岡県吉田町と韓国・平沢(ピョンテク)の生産拠点でE...

その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン(ArF)レジスト、多層膜材料、極端紫外線(EUV)レジストなどを手がけた。

フォトレジストは日本企業が世界シェアの約9割を占め、特に最先端の半導体製造に使われるEUVレジストは日本勢がリードしてきた。韓国メーカーによる最先端半導体の生産に日本勢のEUVレジストも寄与したとみら...

30年度の売上高倍増に向け、既存事業では精密洗浄サービスの拠点拡充や、フッ化アルゴン(ArF)光源レジスト用ポリマーおよび洗浄用薬剤などの増産を検討。EUVレジスト用ポリマーや有機金属...

光源開発が進む一方、EUVリソグラフィに最適なレジスト材料の開発は遅れており、世界的な開発競争が繰り広げられている。... 現在、メタルレジストと呼ばれるEUVに高感度な金属元素を含んだ物質をEUV用...

同社はEUV向けにネガ型、ポジ型の両方を展開する見通し。EUVレジスト製品はJSRなど競合他社が先行する。... 2020年にはEUVレジストの量産化に向けて品質保証体制を強化しようと、富士フイルムエ...

「現在開発を進めている極端紫外線(EUV)レジストは年内にも量産できるだろう」という。 一方、EUVレジストは同業他社が先行している。

開発中の極端紫外線(EUV)レジストは2021年内にも量産が始まる見通し。

同社はEUVレジスト用ポリマーでも、この強みが生かせると判断。新井工場では21年度、ArF・EUV両レジスト用のポリマーが製造できる新しいパイロット設備を稼働する。EUVレジスト用ポリマーの厳しい品質...

最先端のEUV(極端紫外線)レジスト用モノマーも、レジストメーカーの採用が徐々に拡大している。 ... ArFレジストの需要拡大とEUVレジストの進展を踏まえ、両レジ...

韓国では、原料を調合してレジストを生産する最終工程を行う。... 大阪工場では既存建屋に液浸ArFと極端紫外線(EUV)レジストの製造設備を増設し、23年度上期に稼働する。... 住友...

同社は液浸ArFの次の極端紫外線(EUV)露光用レジストで出遅れていたが、最近は「複数社に採用が決まり、追い上げができてきた」(勝田修之電子材料事業部長)と手応えを語る...

特にEUV関連では、最先端の半導体の製造に欠かせないEUVリソグラフィー技術の研究開発が進められてきた。EUVレジストなど基盤技術の開発では欠かせない存在となっている。 ... 渡辺...

同設備では、液浸フッ化アルゴン(ArF)や極端紫外線(EUV)プロセス向けレジストを生産する。... 同社は液浸ArFレジストで高いシェアを持つ。EUVレジストも採用が...

富士フイルムは、極端紫外線(EUV)レジスト事業を本格的に立ち上げ、2024年までに世界シェア10%を目指す。... FFEMはEUVレジストの開発や生産に向け、今回の検査装置...

直江津工場に加え台湾でも、5G普及などで需要拡大が見込まれる極端紫外線(EUV)レジストの生産を始める。 ... EUVレジスト事業を強化する企業が増える中、宮崎秀樹...

EUVレジスト生産開始/基礎化学研究も 住友化学は、第5世代通信(5G)関連素材の事業化を加速する。... 22年度上半期にはEUVレジストの開発・評価体制...

直江津工場で製造するレジスト製品のうち、主力のフッ化アルゴン(ArF)フォトレジストの生産能力が現状比1・3倍、台湾では主力製品である多層レジスト材料の生産能力が同1・5倍となる。.....

なお、同社は顧客の要望に合わせて大幅に性能を向上させたEUVレジストを開発しており、今回の新棟完成に先行し、近く量産を開始する予定。 ... 新たな露光機の導入により、EUVレジスト...

大阪工場(大阪市此花区)で回路パターンを転写する露光工程用レジスト(感光材)生産設備を拡充し、20年に本格稼働させる。... 大阪工場では、高機能な半導体の主要な製造プ...