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記事検索結果
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フォトリソグラフィー(露光)と電気鋳造(電鋳)技術を組み合わせたもので、超精密加工に適している。 通常のフォトリソグラフィーは金属基板の上に感光性樹脂...
次世代の極端紫外線(EUV)リソグラフィー露光装置の実用化が近づく。... 次世代の半導体デバイス製造に使うリソグラフィー技術の本命として開発が進んでいる、1台の価格が約100億円のE...
最近は企業からより細かい結合状態の分析や光を使ったリソグラフィー(露光)技術などへの需要が増えており、それらの分析が可能なBL3、BL9、BL11などの産業利用を検討する。 &...
露光で回路パターンを形成するフォトリソグラフィー工程の後、加熱して硬化収縮させる。 ... 従来のスクリーン印刷方式では配線の微細化が難しいことから、蒸着やフォトリソグラフィー方式へ...
東芝は半導体製造のリソグラフィー工程で、薬液の使用量を従来比26%削減した。... 洗浄用の薬液はリソグラフィー工程で使用後、廃液の純度や成分別にタンクに集約する。
こうした工程に必要な日立化成工業の半導体用研磨材料に加え、JSRや信越化学工業が高いシェアを持つリソグラフィー関連材料の受注が伸びている。
電子材料部門で主力の半導体リソグラフィー向け反射防止用コーティング材、液晶ディスプレー向け配向膜材料といった開発を強化する。
放射光施設「ニュースバル」の主要利用テーマである極端紫外光リソグラフィー関連研究、放射光産業用分析利用、放射光によるナノ・マイクロ加工研究、レーザー・コンプトン散乱ガンマ線の利用の成果などを木下博雄教...
次いでフォトレジスト材とパターン露光を使ったフォトリソグラフィーにより不要な部分を除去し、短冊状や星型など任意のグラフェンのパターンを基板上に残す。
すでにアイルランド・ダブリン大学にリソグラフィー光源の研究用途としてサンプルを提供した。 結晶サイズが3インチにできると、研究用だけでなく、EUVリソグラフィー向けなど商業化につなが...
