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記事検索結果
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半導体ドライエッチング技術は半導体デバイスの微細化・高集積化を実現する手段としてリソグラフィー技術と双璧をなすキーテクノロジー。従事するエンジニアの数もリソグラフィーの分野と同じぐらい多いという。&#...
とりわけ、真空成膜技術やフォトリソグラフィーを印刷技術の原理で置き換える「プリンテッドエレクトロニクス」は、省資源・省エネルギーのデバイス製造を実現すると期待されている。
スクリーン印刷は、微細回路形成で主流のフォトリソグラフィー法に比べて低コストで破棄材料も少ないが、狭ピッチ化が課題だった。
半導体リソグラフィー技術は半導体集積回路の微細化、高集積化をけん引してきた中心的な技術だ。... リソグラフィー技術を支えるマスク、レジスト、計測評価の各技術についても詳しく解説している。 &...
このようなエレクトロニクスデバイスのほとんどは、フォトリソグラフィーというパターニング技術によってつくられる。フォトリソグラフィーは微細で精細なパターンをつくることができるが、真空の工程を多く含むとと...
【色素溶液を石英に】 産業界ではこれまで石英ガラス表面への微細加工は、光リソグラフィー技術と強酸水溶液あるいはプラズマを用いたエッチングで行われてきた。... このため、光リソグラフ...
同グループは複雑な分岐構造を持つ毛細血管の断面が円形である中空モデルを作製するには、機械加工や光造形、積層造形などでは難しく、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーが適していると判断した。
北海道大学電子科学研究所の上野貢生准教授、三澤弘明教授らは、近赤外光を露光用の光源に使い、従来よりも10分の1程度細かい数ナノメートル(ナノは10億分の1)の分解能で加工できる光リソグ...
同社は半導体製造装置の洗浄工程やフォトリソグラフィー工程で使われる部品や、医療分析装置の継ぎ手などのシール部品や機能部品の切削加工などを手がけている。
EUVL基盤開発センターや大阪大学などと共同で、極端紫外光(EUV)リソグラフィーに必要なマスク技術や、レジスト材料の露光性能の評価技術などを開発する。
その後、フォトリソグラフィー技術を使った細胞表面に傷を焼き付け、導電膜をはがす。... フォトリソグラフィーの応用により、数マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の精度で複数の細...
現像が必要なフォトリソグラフィーや微小の鋳型を使うナノインプリント技術とは異なる簡単な微細加工法として、光記録材料やマイクロデバイスなどの分野で応用が期待できそうだ。
記憶部分を担うアルミニウム酸化物層をRFスパッタ法、アルミニウム配線層を真空蒸着で形成しフォトリソグラフィーで作製した。
現在のLSI製造で使う描画技術の光リソグラフィーは、光の回折限界などによって微細化に限度があり、また電子ビームを使う電子ビームリソグラフィーは微細加工に向くが、コストが高いなどの課題があった。 ...
半導体製造で現在主流であるフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした液浸リソグラフィー技術を適用するため、半導体メーカーは大規模な設備投資をせずに集積度を高めたLSIの生産が...
