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タイプの違う細胞の配置を、フォトリソグラフィーや多色刷り印刷技術で制御する。

特に露光光源に極端紫外線(EUV)光源を使う最新リソグラフィー技術用素材などが注目されている。

今後は量産手法の確立を目指すほか、プリント基板や半導体の製造プロセスで使うフォトリソグラフィーなどへの応用研究を進める。

このほかに、JSRは09年秋から四日市工場(三重県四日市市)内に先端リソグラフィー材料工場を稼働させている。

フォトリソグラフィー性能を付与することで、微細なパターンの形成もできる。

太陽誘電複合デバイス事業本部EOMIN商品部の星健一部長がこだわったのは、フォトリソグラフィーとエッチングで微細な配線を形成する技術の展開だ。

「半導体の次世代リソグラフィーの本命はEUV(極紫外線)。

伯東は米マスクレス・リソグラフィー(カリフォルニア州)と、日本を含むアジア全域の総代理店契約を締結した。

波長193ナノメートルのレーザー波で露光するArFリソグラフィーでの半導体製造が可能。

「ビーム・ペン・リソグラフィー」と名付けたもので光透過性のポリマーでできたピラミッド型の小型ペンを平面に多数並べた構造。

特徴はリソグラフィーで同じような多孔体をつくろうとするとたくさんの工程が必要だが、この場合は1工程で可能となっている。

コベルコ科研はフォトリソグラフィーとエッチングの技術を活用。

絶縁材に含む樹脂段階から開発し、硬化温度を従来のフォトリソグラフィー方式向けと同じ150度Cに引き下げた。 ... このため、フォトリソグラフィー方式に比べ材料の使用量や加工時間の大幅な削減・...

シリコン製はフォトリソグラフィー技術で隔壁や弁などの微細構造を成形するが、ステンレス箔製はプレス加工で成形できる。

JSR、米の研究に参加 (2010/5/19)

JSRは18日、米国の半導体製造技術研究組合であるSEMATECH(セマテック)が行っている極端紫外線(EUV)リソグラフィー技術の開発プログラムに参加したと発表した。

同大学の松村隆教授が「ガラスの微細加工」、平栗健二教授が「ダイヤモンド状炭素(DLC)膜のコーティング技術」、堀内敏行教授が「光リソグラフィー」をテーマにそれぞれ講演する。

詳細は米国カリフォルニア州で21日から開催される半導体製造のリソグラフィー技術に関する国際会議で発表する。

米サンノゼ市で21日から開かれるリソグラフィー技術の国際学会「SPIE」で発表する。

ベース素材の上に光で硬化するシートと紫外線(UV)マスクを置き、フォトリソグラフィーで感光・硬化させた後、ニッケルメッキを施す。

これらの薄膜はスピンコート法などの簡便な塗布法で得られ、パターニングにはインクジェット印刷やフォトリソグラフィー法などを利用できる。

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