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JSRは25日、2009年春に四日市工場(三重県四日市市)内に完成した先端リソグラフィー材料の新工場を稼働し、フッ化アルゴンレジストの出荷を始めたと発表した。

レーザー波で露光するArFリソグラフィーで問題となる表面の異物や汚れなどの検査にも対応する。

グラフェンに、微細加工技術の電子線ビームリソグラフィーと反応性イオンエッチングを直接施した。

オランダのASMLグループは15日、東芝と計算機リソグラフィー製品の優先供給契約することで合意したと発表した。東芝はASMLが開発した計算機リソグラフィー製品を回路線幅30ナノメートル(ナノは...

流路形成には、半導体素子製造で使われるフォトリソグラフィー技術を用いる。

王子製紙は従来の電子線リソグラフィーなどの製法に比べ、高価な装置を使わず、低コストでナノサイズの微細凹凸構造を形成する製造法を開発した。 ... 従来の電子線リソグラフィーなどでは2週間かかっ...

既存のリソグラフィー法や剥離法に比べ高い収率で品質の良いグラフェンを得られることから大量生産への発展が期待される。

露光技術(リソグラフィー)による回路形成に比べコストを最大5割程度削減できるという。

【優秀賞】▽リソグラフィー用ArFレーザー=ギガフォトン(装置・システム部門)▽10Gbit光通信用半導体レーザー=日立製作所(コンポーネント・デバイス部門&#...

だが、主な製法はリソグラフィー(基板上に感光性の物質を塗布して凹凸パターンを形成する方法)で、多くの工程を要し、簡便な形成が難しかった。

微細構造形成にリソグラフィー(露光)を使う必要がない。

ライン幅、間隔30マイクロメートル以下の回路形成で用いられるフォトリソグラフィー法の設備に比べて工程数が少なく、設備コストが半分以下で済むという。

NECエレクトロニクスと共同で開発した32ナノメートル世代プロセス技術を使い、先端のリソグラフィー技術を使った。

従来のようにリソグラフィーを使わずにデバイス特性が得られる方法だ。

樹脂に感光性を付与することでアルカリ現像によるフォトリソグラフィー加工が可能になり、従来のスクリーン印刷法では限界とされるパターン線幅と間隔がそれぞれ20マイクロメートル(マイクロは100万分...

半導体製造プロセスのフォトリソグラフィー工程で用いるクリーンソリューションなど高純度化学薬品に特化した生産設備で、生産能力は年間約4500トン。

従来のリソグラフィーで形成する微細ドットパターンを9倍に高密度化した。

凸版はフォトリソグラフィー方式の製造方法を採用しており、インクジェット方式を採用する大日印よりも収率で高く、「収益力は当社の方が良い」(垣谷英孝取締役)と見ている。

微細加工を施す従来の電子ビームリソグラフィーに比べ、低コストで大面積に使える利点がある。

エプソントヨコムは微小電気機械システム(MEMS)技術を応用、水晶素材にフォトリソグラフィーを施す独自の加工法でデバイスの小型、薄型化を図る。

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