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記事検索結果
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新製品は、明電ナノプロセス・イノベーション(東京都品川区)の「ピュアオゾンジェネレータ」から供給される濃度が100%に極めて近いピュアオゾンガスを原料とし、加圧や特別な薬液を要...
カーボンナノチューブの熱電変換素子で、災害時に建築物の熱配管の不具合を瞬時にセンシングして無線で知らせるシステムなどを開発。カーボンナノチューブのさまざまな事業展開を評価した。... ▽マテリアル賞&...
【明電ナノプロセス・イノベーション/基板にダメージ与えず】 明電ナノプロセス・イノベーション(東京都品川区)は、独自の高濃度・高純度オゾン発生技術を用いたバ...
明電ナノプロセス・イノベーション(NPI、東京都品川区、高田壽士社長)は、高純度100%オゾン(ピュアオゾン)を酸化源とする成膜装置「バッチ...
【浜松】ナノプロセス(浜松市西区、刀原寛孝社長、053・482・1800)は、レーザー薄膜除去装置の製造・販売に乗り出した。... ナノプロセスは微細研磨材を吹き付けて加工するマイクロ...
既存の2研究拠点の技術を融合、プラズマナノプロセスやプラズマ制御技術を高度化する。... 新たな機能を持つナノ材料の合成、プラズマによるがん治療などへの活用も目指す。 ... 設備は...
同装置は世界で唯一、EUV露光装置と同じ13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)という短い波長のEUV光を採用した。... 2011年から5年間、EUVL基盤開発センター(現...
韓国のサムスン電子は18日、当初の計画に対し3カ月前倒しで8ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスの半導体チップの生産に入る準備が整ったと発表した。... EUVは次の7ナノメート...
回路パターンの露光に用いる13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)の波長で、欠陥を高精度に検出できるEUV光を検査光源に採用。露光時に転写する恐れのある幅50ナノメートル、高さ1ナノ...
韓国のサムスン電子は23日、3次元構造のFinFET(フィンフェット)で世界初の10ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス技術を採用したマイクロプロセッサーを開発し...
この投資により、7ナノメートル(ナノは10億分の1)の製造プロセスに対応する次々世代マイクロプロセッサーの生産が可能になるという。 ... ファブ42で生産される7ナ...
富士通セミコンダクターは13日、チップ上の回路線幅に28ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを適用したアナログ・デジタル(A/D)コンバーターを開発した...
ルネサスエレクトロニクスは13日、チップ上の回路線幅に40ナノメートル(ナノは10億分の1)の最新プロセスを採用したフラッシュメモリー内蔵マイコンの高速読み出しを実現する技術を開発した...
東芝は4日、世界最先端となるチップ上の回路線幅に19ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを適用したNAND型フラッシュメモリー採用のソリッド・ステート・ドライブ(SSD、...
32ビットは低消費電力モデルが110ナノプロセスに移行したが、インバーター制御向けなど高性能32ビットや、8ビットでも11年度中に同プロセスの適用を計画している。
