- トップ
- 検索結果
記事検索結果
80件中、1ページ目 1〜20件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.005秒)
技術の実現性証明カギ ラピダス(東京都千代田区、小池淳義社長)は18日、最先端半導体工場を建設中の北海道千歳市で、量産用では国内初となる蘭ASML製の極端紫外線...
木質由来の非可食原料を用い、有機フッ素化合物(PFAS)フリーを実現しつつ、次世代極端紫外線(EUV)露光装置に対応する高い解像度を特徴とする。
産業技術総合研究所はインテルと最先端の極端紫外線(EUV)露光装置を運用するJ―ALC構想を進める。... インテルや材料メーカーなどと露光装置を運用して技術開発を支える。... 露光...
半導体と製造装置の基本を確認し、その部品加工に必要な材料や精密形状の加工を解説する。 総論では、半導体エネルギー研究所の菊地正典顧問が製造装置の主要部品の機能やサプライヤーに求められ...
EUV露光装置は光源の出力を高めることで半導体製造に使えるようにした。 ただ、EUV露光装置の製造は難しい。... 従来の露光装置に比べ、複雑な回路を一度に形成できるなど製造工程を減...
日本の研究機関としては初めてEUV露光装置を導入する。... EUV露光装置は回路線幅が微細な半導体の製造には必要不可欠だ。... 半導体製造装置や材料メーカーはEUV露光装置に適応した製品を供給する...
最先端の半導体分野では極端紫外線(EUV)露光装置を手がける蘭ASMLが独占するが、EUVに比べて解像性の低い装置もメモリーや車載向けなど幅広い分野で需要が強まっている。... 一方、...
2024年末に日本で初めて極端紫外線(EUV)露光装置をパイロットラインに導入。... 「日本には材料や製造装置で強みを持つ企業がある。
コージライトの販売先は半導体製造装置向けが現在は大半だが、今後は天文・宇宙向けも伸ばし、半導体製造装置向けに次ぐ事業規模とする。 ... 同社はコージライト製品を主に半導体の露光装置...
「24年中にはラピダスにEUV露光装置が導入される。... EUV露光装置に触れられる環境として、imec(ベルギーの国際半導体研究機関)などがある」 ―米インテルに...
東京エレクトロンは極端紫外線(EUV)露光装置により回路のパターン形成を補正するガスクラスタービーム装置「Acrevia=写真」の販売を始めた。EUV露光と...
24年中にはラピダス(東京都千代田区)が北海道のパイロットラインに、日本で初めて極端紫外線(EUV)露光装置を導入。... ASMLが人員強化に動く背景には、日本政府の...
リンテックは次世代極端紫外線(EUV)露光装置用カーボンナノチューブ(CNT)ペリクル(防塵膜)を開発しサンプル提供を始めた。......
リンテックはオレゴン州の施設内に、半導体製造の後工程で使うテープ貼り付け・剥離・加工装置などを順次搬入している。... 同社の半導体関連事業は表面保護テープやダイシングテープなどのほか、各種装置を手が...
住友化学は次世代極端紫外線(EUV)露光装置向けフォトレジストを開発する。... 次世代EUV露光装置は微細な回路パターンを描くため、光の利用効率が高い高NA...
また、速度がDRAMとNANDの中間のメモリーを開発できないか考えている」 ―NANDにおいて、極端紫外線(EUV)露光装置の導入の可能性はありますか。 &#...
EUV露光装置を複数導入 米半導体大手マイクロン・テクノロジーが2027年末にも先端DRAMの新工場を稼働することが分かった。26年早々に広島工場(広島県東広島市)の...
その一例が半導体製造の「心臓」とも言える露光装置。... 線幅数ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の最先端半導体の製造に必要な極端紫外線(EUV)露光装置の開発から...
アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したTSMCのケビン・チャン上級副社長はASMLの高NA(開口数)極端紫外線(EUV)露光装置について、「非常に...
前工程では北海道千歳市での生産拠点の建設や、極端紫外線(EUV)露光装置などの設備の導入を進める。 ... 装置の搬入を24年末に行う。
