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記事検索結果
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ポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂フィルム上に触媒化学気相成長法(CAT―CVD)で、酸素やフッ素を含むシリコン系化合物の薄膜を3層重ねて、厚さ0・5マイク...
フェローテックは半導体製造装置向けに、韓国で化学気相成長法(CVD)による炭化ケイ素(SiC)部材(写真)の生産に乗り出す。
アドマップ(岡山県玉野市、松田泰明社長、0863・23・3333)は、化学気相成長法(CVD)で作る多結晶の炭化ケイ素(SiC)部材の生産能力を2018...
分子構造を緻密に制御できる有機合成法と、安価な化学気相成長法(CVD)を併用する作戦だ。 ... これにエタノール蒸気を500度Cで当てるCVDで成長させる。... ...
日本電子工業は、プラズマ窒化、ラジカル窒化、プラズマCVD(化学気相成長法)、高周波誘導加熱などの各種表面処理装置製造と、これらを利用した自動車部品などの受託加工を手がける。... 同...
84年から、赤崎教授が本命と考えていた有機金属化学気相成長法(MOCVD)を使って窒化ガリウムの薄膜を形成する研究に着手した。... 従来一般的な気相法と呼ばれる生産手法は気体状の材料...
京都大学エネルギー理工学研究所の坂口浩司教授と中江隆博助教らの研究グループは8日、1ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の幅を持つ極細ナノ炭素細線であるグラフェンナノリボン(...
産業技術総合研究所の畠賢治首席研究員らが04年に開発した「スーパーグロース法」を利用し、同研究所や新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)と共同で、純度が99%以上の単層...
【京都】サムコは窒化ガリウム(GaN)を材料とするパワー半導体用ウエハー向け薄膜成長装置に参入する。マルチチャンバータイプのMOCVD(有機金属化学気相成長法)装置を投...
【川越】高純度化学研究所(埼玉県坂戸市、宝地戸道雄社長、049・284・1511)は年内をめどに、物理気相成長法(PVD)向けに、付着させる薄膜成分を含んだ300ミリメ...
開発したルテニウム材料は、回路線幅20ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の次世代DRAMに使われる、MOCVD(有機金属化学気相成長法)の成膜材料(プリカー...
化学気相成長法(CVD)により、シリコン、ニッケル(Ni)かコバルト(Co)の化合物を成膜できる。... 成膜の前処理工程である自然酸化膜の除去を装置内...
成長著しい中国のLED照明市場を日系メーカー各社はどのように攻略するのか。... この過程で用いるのがMOCVD(有機金属化学気相成長法)装置。... 日亜化学の福代氏は「品質が良くて...
これにより、高温環境を伴う化学気相成長法の一つであるプラズマCVD法にも適応できるため、形成する回路の品質向上に貢献する。
綿毛や羊毛に入り込んだ土や砂などを取り除く紡績針の耐久性を高めるために、自社でパルス放電によるプラズマCVD(化学気相成長法)被膜装置を開発し、DLC被膜加工を始めた。
両側には製造プロセスの心臓部となるプラズマ化学気相成長法(PECVD)装置が3台ずつ合計6台並び、ロボットアームが次々とガラス基板を出し入れする。
米ライス大学、産業技術総合研究所、米ユタ大学などの研究チームは、グラフェンと六方晶系窒化ホウ素(BN)とを組み合わせたハイブリッド型シート材料の製造法を開発した。... それに対し、ラ...
