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記事検索結果
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NTNはフラットパネルディスプレー(FPD)の基板生産工程で発生する回路断線の修正用途を想定した「微細パターン描画装置」を開発した。最小で回路線幅3マイクロメートル(マイクロは...
今後は、微細パターンを形成した金型を押しつけてパターンを一括転写するナノインプリント技術を用いて、グラフェンをベースにした透明電極、次世代半導体などの開発を進める。
JSRは2日、半導体製造工程で、1回のフッ化アルゴン(ArF)光源露光で回路線幅(ハーフピッチ)20ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細加工を行...
東芝は16ナノメートル世代以降(ナノは10億分の1)のLSI製造に使う新しい微細パターン描画技術を開発した。... プローブリソグラフィーは、とがったプローブの先端を基板に当てて電圧を...
光の干渉や回折を利用してパターンムラや傷などを見つける「OptoScan(オプトスキャン)」を製品化した。... 検出感度は直径100ナノメートル(ナノは10億分の1)...
金森准教授らは、基板に塗布したポリマーに原版を押し付けて微細パターンを転写する、光ファイバー専用のナノインプリント装置を開発した。
また、洗浄耐久性や微細パターンの解像性、寸法精度の均一性をそれぞれ向上した。... 回路パターンを2枚のフォトマスクに分割して露光する「ダブルパターニング」や、回路を微細化する「SMO」技術などに対応...
アイエムエスはモーターや磁気エンコーダーなどの磁気パターンを作る着磁装置メーカーで、微細で複雑なパターン形成が強み。... 吉野隆之取締役は「微細パターンを作れるのは高精度の測定技術があるから」と明か...
【立川】ナノシステムソリューションズ(東京都多摩市、芳賀一実社長、042・339・8440)は従来機比5倍の速度でレジストの微細3次元加工ができる高速マスクレス露光装置「D―light...
CGHの有力な作製手法の一つはフォトマスク作製技術を利用するもので、クロム膜のある石英ガラスに微細なパターンを描画。これに光をあてると微細パターンによって光が回折し、奥行き感の強い立体的な再生画像が得...
同プラグラムは最先端の半導体回路形成技術であるEUV露光装置を用いて回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細パターン形成を実現するもの。
微細化の限界もないだろう」と話すのはNECデバイスプラットフォーム研究所研究部長の杉林直彦さん。... 量産されているMRAMは電流磁場書き込み方式と呼ばれ、回路線幅の微細化が進むにつれて、書き込み電...
スミックス(神奈川県相模原市、宇田満社長、042・713・3733)は、微細パターンの違いを数ナノメートル(ナノは10億分の1)オーダーで判別できるマクロ検査技術「OA...
UV式の最大加圧力は2メガパスカルで操作温度は100度Cで、直径50ナノメートル(ナノは10億分の1)の柱状パターンを転写できる。 ... ナノインプリントはナノレベルの微細パ...
ナノインプリントはナノレベルの微細パターンを彫りこんだ金型を樹脂やガラスに押しつけ微細パターンを転写する技術。安価に微細構造を大量生産する技術で、発光ダイオード(LED)のほか、薬剤試...
小型のため省スペースに設置しやすく、ナノ寸法の微細なパターンを効率良く作れる。... 光学素子やバイオ素子など、微細加工が必要な次世代デバイスを量産できる。 ... シートナノインプリントは微...
