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記事検索結果
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東芝と産業技術総合研究所は15日、LSI製造時に使う液浸フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザー露光装置の性能を高める技術を共同開発したと発表した。... ArFエキシマレーザー光源を...
フッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)ドライ露光装置の性能を引き出したことで、最先端のArF液浸露光装置を追加しなくてもチップ取得数を増やせる。
ニコンは回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の半導体製造プロセスに採用するフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の新機種「S620」の出荷を...
微細化の鍵を握る露光装置はフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置で最先端の2回露光(ダブルパターニング)対応機種を活用。
50ナノや40ナノ台DRAMを生産するには、1台当たり40億―50億円のフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置を必要とするが、65ナノXSではそれよりも安い露光装置で対応...
今回の成果では非晶質シリコン膜に短パルス幅のエキシマレーザーを照射し、絶縁層を介した下地の既存トランジスタに熱的損傷を与えずシリコン膜を結晶化。
東京エレクトロンは合志事業所(熊本県合志市)に、オランダのASML製ArF(フッ化アルゴンエキシマレーザー)液浸露光装置を今秋導入する。
(藤木信穂) 【業界標準材料に】 開発したフッ化アルゴン(ArF)レジストは波長193ナノメートル(ナノは10億分の1)のArFエキシマ...
露光光源は波長436ナノメートルの可視光線「g線」から同365ナノメートルの紫外線「i線」、同248ナノメートルの「フッ化クリプトン(KrF)エキシマレーザー」へと順に移行。回路線幅が...
フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザー光源の液浸露光装置の引き合いが強い」 ―先端分野に限っては、受注が期待できると言うことでしょうか。
