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常識覆す「ネオシリコン」−ナノ構造発光現象や単電子動作も（2009/9/28）

【印刷でパターン形成】小田教授はこれまでに粒径5ナノメートル以下の均一なナノ結晶の形成に成功。... 印刷技術でシリコンの微細パターンを大面積に形成できるようになれば、量産コストが格段に下が...

ニシハラ理工、微細パターンを部分メッキするシステムを開発（2009/9/22）

【立川】ニシハラ理工(東京都武蔵村山市、西原敬一社長、042・560・4011)は、曲面などの複雑構造に微細パターンを描ける部分メッキシステムを開発した。... 微細化の進む電子部品業...

協同インター、ナノインプリントでアスペクト比10を実現（2009/8/19）

この際、金型と基板を離す離型処理、穴の微細洗浄が不可欠だが、同社は表面エネルギーを下げるフッ素ポリマーなどを離型剤に用い、数ナノメートル(ナノは10億分の1)の厚さでパターンに沿って均...

RIMCOF、金属ガラスで磁気記録媒体の新作製技術を開発（2009/8/6）

加熱による軟化を使い金型のパターンを押しつける「熱インプリント」という転写加工を金属ガラス薄膜に利用するプロセスで、1平方インチあたり1テラビット以上の磁気記録媒体として利用できることを実証した。.....

エリオニクス、イオンビームエッチング装置を発売（2009/2/17）

【立川】エリオニクス(東京都八王子市、本目精吾社長、042・626・0611)は、ハードディスク(HD)などの微細パターン形成に使うナノインプリント用モールドを、高精度...

従来のリソグラフィーで形成する微細ドットパターンを9倍に高密度化した。半導体の微細パターン形成に役立つ。 ... さらにマークの間にも円柱状のドットを2個挿入し、直径14ナノメートルの円柱状の...

東芝、NAND第5・第6製造棟に30ナノメートル台プロセスを採用（2008/7/9）

回路線幅を一世代微細化すると取れるチップ数が2倍近くに増えるため、四日市市と岩手県北上市に建設する第5・第6製造棟には、研究開発を進めている同30ナノメートルの次世代プロセスを適用。... 解像度を高...

アイセル、50%小型化した超精密サーボプレス機を発売（2008/7/4）

微細パターンが刻まれた型を製品に押し当て転写する工程で使う機器で、光ディスクや半導体ウエハーの製造装置に組み込む。

産総研など、大面積印刷法を開発―15センチ角フィルムに素子（2008/6/10）

シリコーンゴムでかたどった版で数十ナノメートル(ナノは10億分の1)寸法の微細パターンを印刷するマイクロコンタクトプリント法と呼ばれる技術を使う。直径6インチの大面積で、0・8マイクロ...

アドバンテスト、EB露光装置事業を強化（2008/3/24）

アドバンテストは半導体の回路パターンをウエハー上に直接描画する電子ビーム(EB)露光装置事業を強化する。... また08年中に回路線幅45ナノメートル(ナノは10億分の1...

同社は導電材料の微細パターン印刷や高耐熱・高硬度のガラス代替フィルムなども開発。