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インタビュー/大日本印刷専務執行役員・土屋充氏フォトマスク、EUV対応（2024/12/11 電機・電子部品・情報・通信２）

欧州の強化や米国、インドなどで日本と同じように多様な挑戦をし、成長しようと考えている」 ―極端紫外線(EUV)露光に対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1...

ニュース拡大鏡/キヤノン、半導体装置巻き返しナノインプリントで再参入（2024/9/27 電機・電子部品・情報・通信）

EUVより低コストで微細化キヤノンの次世代半導体製造装置「ナノインプリントリソグラフィ(NIL)装置=用語参照」が動き出す。... 特に7ナノメートル...

機能化学、半導体回復に備え（2024/5/6 素材・建設・環境・エネルギー）

富士フイルムも需要回復を見込み、5月下旬に先端半導体製造時のコスト減と省電力化に貢献する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を発売する。同材料はウエハー上のレジストに回路パターンをハンコのように押し...

VACUUM2023真空展/紙上プレビュー(3) （2023/10/31 機械・ロボット・航空機１）

半導体回路の転写などで使われるナノインプリントリソグラフィープロセスの量産技術も紹介。

第49回「環境賞」に5件（2022/5/10 建設・生活・環境・エネルギー）

【キヤノン/NILによる超微細半導体の省エネルギー加工技術】キヤノン、大日本印刷、キオクシアが開発に取り組む「ナノインプリントリソグラフィ(NIL...

大日印、半導体製造の電力10分の1 ナノインプリントで（2021/6/25 総合１）

大日本印刷は、キオクシアホールディングス(旧東芝メモリホールディングス)、キヤノンと共同で開発を進める「ナノインプリントリソグラフィ(NIL)」での半導体製造が極端紫外...

長瀬産業、グループ会社が光学部品開発で協業（2020/3/19 国際・商社）

生産にあたっては、ショットの高屈折ガラスウエハー、インクロンの高屈折ナノインプリントコーティング材、EVGのナノインプリントリソグラフィ技術、ウェーブオプティクスの光導波路の設計ノウハウなどを組み合わ...

長瀬産業、DOE開発でEVGと協業（2020/3/12 国際・商社）

インクロンはEVGの装置を用いてナノインプリントリソグラフィ加工に最適化された工学材料の開発を進める。

大日印、次世代半導体製造法向け回路版の複製装置導入（2011/1/13）

大日本印刷は12日、次世代半導体製造方法として期待されるナノインプリントリソグラフィの実現のために、回路パターンを転写するテンプレートの複製装置を導入したと発表した。

大日印、米社とテンプレート複製装置を開発へ（2009/7/2）

大日本印刷は1日、米モレキュラーインプリントと回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の次世代半導体製造技術として有望なナノインプリントリソグラフィ技術の実用化に必要な、テン...