記事検索結果

半導体産業への異次元支援策から2年成果の刈り取り焦点に（2023/12/28 総合２）

米マイクロン・テクノロジーも広島工場で、国内で初めてEUV(極端紫外線)露光装置を使った次世代メモリー半導体の量産を計画する。

経産省、米マイクロンに1920億円先端半導体量産へ助成（2023/10/4 総合２）

マイクロンが2025年12月―26年2月の出荷を目指している、国内で初めてEUV(極端紫外線)露光装置を使った次世代メモリー半導体の量産に最大1670億円、同半導体を積層した先端DRA...

深層断面/日米蘭、半導体規制で連携装置メーカー「中国事業」に打撃（2023/2/17 深層断面）

ASMLは1ケタナノメートル台の半導体製造に不可欠なEUV(極端紫外線)露光装置で世界シェアを独占する。... 例えば、EUVより一世代前の「ArF液浸」露光装置はニコンが世界シェアの...

半導体装置、生産性向上・微細化に商機 5G・IoT追い風（2021/12/21 電機・電子部品・情報・通信１）

微細化需要の高まりを背景にEUV(極端紫外線)露光工程の導入拡大が見込まれる一方、EUVは従来の露光方法と比べて回路線幅のばらつきが生じやすいなどの課題がある。

沸騰・半導体市場素材各社の戦略(4)三井化、2本柱で事業拡大（2021/6/17 素材・医療・ヘルスケア）

【唯一の正規品】ペリクルは、シリコンウエハーに回路を焼き付ける露光工程で回路図原版(フォトマスク)を塵などから守るニッチな製品。従来の露光方法向け製品は複数社が供給...

神奈川大、露光装置向け低分子フォトレジストを完成（2010/1/27）

【横浜】神奈川大学の西久保忠臣教授はEUV(極端紫外線)露光装置向けの低分子フォトレジストを完成、22ナノメートル(ナノは10億分の1)の回路パターンを作成することに成...

東芝、低分子レジスト開発−EUV露光装置向け（2009/11/19）

東芝は次世代EUV(極端紫外線)露光装置向けの低分子フォトレジストを開発した。