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電気通信大学の山口浩一教授らの研究グループは、従来比10―100倍の高い密度でインジウムヒ素製の量子ナノワイヤ(量子細線)をシリコン基板上に高均一に作製した。......

一方で、同社従来品比で2・5倍の明るさと高均一照射が可能な拡散タイプは、ビン内部の異物検査などに適している。

同社は富士通、東大と産学連携の研究開発成果を基に、高密度・高均一量子ドット技術の開発とレーザーの製品化を進めている。

【市村産業賞功績賞】 ▽大型高均一GaN基板の量産技術開発(日立電線)▽造影剤を用いずに血管を良好に描出できるMRI装置(東芝メディカルシステムズ)&...

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