記事検索結果

インタビュー/大日本印刷専務執行役員・土屋充氏フォトマスク、EUV対応（2024/12/11 電機・電子部品・情報・通信２）

欧州の強化や米国、インドなどで日本と同じように多様な挑戦をし、成長しようと考えている」 ―極端紫外線(EUV)露光に対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1...

大日本印刷(DNP)は27日、極端紫外線(EUV)リソグラフィーに対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1)世代のロジック半導体向けフォトマスク...

トッパンフォト、米IBMと2ナノEUVマスク開発で契約（2024/2/8 電機・電子部品・情報・通信１）

トッパンフォトマスク(東京都港区、二ノ宮照雄社長)は7日、米IBMと極端紫外線(EUV)リソグラフィーを使用した2ナノメートル(ナノは10億...

復権半導体/大日本印刷執行役員・中西稔氏ラピダス向けマスク注力（2023/12/22 電機・電子部品・情報・通信）

中国では当社のフォトマスクのシェアは約5割。... 競合と協力する必要も出てくるかもしれない」 ―極端紫外線(EUV)マスクの状況と今後の方針は。 ...

ニュース拡大鏡/TOPPAN・大日印、フォトマスク微細化加速（2023/12/13 電機・電子部品・情報・通信１）

TOPPANとDNPは極端紫外線(EUV)マスクの量産体制構築を視野に、設備投資にも動き出している。... EUVマスクの量産には描画装置のほか、専用の検査装置なども必要だ。... 2...

復権半導体/TOPPAN専務執行役員・植木哲朗氏 EUVマスク量産検討（2023/12/8 電機・電子部品・情報・通信）

当社も26年度以降に朝霞工場(埼玉県新座市)で極端紫外線(EUV)マスクの量産ライン設置を検討している」 ―フォトマスクでは世界8拠点を持ちます。&#...

ウシオ電機、戦略投資400億円超（2023/5/17 電機・電子部品・情報・通信２）

極端紫外線(EUV)マスク検査用光源などのインダストリアルプロセス事業の強化や、紫外線治療機器を含むライフサイエンス事業を新たな経営の柱に育てる。

大日印、5ナノ対応 EUVリソ向けフォトマスク技術開発（2020/7/11 総合３）

大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。...

第62回十大新製品賞/日本力賞レーザーテック（2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信１）

同装置はパターン付きマスクの検査を露光光源と同じEUVで行う「アクティニック・パターンド・マスク・インスペクション(APMI)」技術を採用した。 ... フォトマスク...

2019年第62回十大新製品賞（2020/1/6 十大新製品賞）

パターン付きマスクの検査を露光光源と同じEUVで行い「アクティニック・パターンド・マスク・インスペクション(APMI)」と呼ばれる。 ... これまでEUVのパターン...

EUVでパターン欠陥検出レーザーテック、マスク検査装置を製品化（2019/10/16 電機・電子部品・情報・通信２）

パターン付きマスクの検査を露光光源と同じEUVで行う「アクティニック・パターンド・マスク・インスペクション(APMI)」の一つ。... これまでEUVのパターン付きマスク検査には、従来...

レーザーテック、露光用原版の欠陥をEUV光で高精度検出する検査・解析装置を開発（2017/4/4 電機・電子部品・情報・通信１）

新製品はEUVマスクブランクスの多層膜内部にEUV光を照射し、欠陥によって散乱する光を検出して欠陥の有無を判定する。... 微細な半導体パターン転写が可能なEUVを露光に用いた技術だが、露光用原版のE...

レーザーテック、極紫外線マスク裏面の異物検査できる装置（2013/2/27）

【横浜】レーザーテックは極紫外線(EUV)マスク裏面の定期管理や受け入れ検査などができる装置「BASICシリーズ=写真」を発売した。... 対応する基板サイズは6インチのEUV...