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半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は最先端の液浸露光(リソグラフィー)装置向けArF(波長193ナノメート...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外線(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ&...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、スペクトル幅制御技術「hMPL」を開発した。
レーザー発振器市場の内訳は、気体レーザー(炭酸ガスレーザーおよびエキシマレーザー)が約12億ドル、ファイバーレーザーが約12億ドル、固体レーザーが約8億ドルであった(なお、ファ...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)はグリーンイノベーションの同社プログラム「エコフォトン」の新ロードマップを発表した。
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は半導体露光用エキシマレーザーの新ブランド「GIGANEX(ギガネックス)」を2016年度に展開すると発表した。
ギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は、半導体露光用エキシマレーザー向けのネオンガスリサイクルシステム「hTGM」を開発し、フィールド評価を開始した。&#...
「当面は従来のフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーが主力だろうが、EUVやICを立体的に接続する3次元(3D)実装といった”次“に対応できる体制づくりも進めている。
EUVは光源の出力不足を解消できず、フッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)の延命で対応してきた。
フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザー方式を延命して微細化に対応してきたが、限界に達しつつある。
フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザー方式を延命して微細化に対応してきたが、限界に達しつつある。
新工場ではフッ化クリプトン(KrF)エキシマレーザーやフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザー向けフォトレジストを生産する見通し。
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は、ArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザーの最新モデル「GT64A...
半導体の基板となるシリコンウエハーに回路パターンを投影するフォトリソグラフィで同社製品は普及しており、希ガスなどを使うエキシマレーザー光源では、世界シェア50%を占める。
