- トップ
- 検索結果
記事検索結果
193件中、2ページ目 21〜40件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.016秒)
迫田研究員らは有限要素法による試料設計に基づき、電子線リソグラフィーで厚み0・4マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のシリコン薄膜をナノ加工してフォトニック結晶を作製した。&#...
同社は世界最先端の半導体の製造に必要な半導体リソグラフィー(露光)装置のメーカーで、今年は中国からの事業が大きく伸びた。
その製造には、原図の回路パターンをシリコンウエハー上に縮小露光するリソグラフィー技術が利用されている。... 電子回路の微細化に対応するため、リソグラフィーの露光波長の短波長化が進み、現在は波長13・...
フォトレジストの開始剤として使用され、先端ロジック半導体のリソグラフィー工程で使われるEUVフォトレジスト用の製品の生産設備を増設した。
一般的なリソグラフィー露光機では、原図であるマスク上の電子回路パターンを写真の原理を使ってシリコンウエハー上に縮小して焼き付ける。... EUVリソグラフィー技術は、量子科学技術研究開発機構(...
欧州現地法人の工場に投資し、ポリイミドに加え、回路形成に用いる現像液やクリーナーなどのフォトリソグラフィー周辺材料も増産する。
半導体製造などで使うフォトリソグラフィーを応用し、水晶の微細加工技術を研究開発・生産するための最適設計を取り入れた。
JSRはまさにそのリソグラフィー材料での貢献が評価され、台湾積体電路製造(TSMC)が最近発表した22年のサプライヤー表彰に選ばれている。
28日の特別講演ではSCREENセミコンダクターソリューションズ(京都市上京区)の担当者が「『半導体市場』と『リソグラフィー技術』の現状と今後の動向について」と題し講演する。 ...
この間、半導体回路の転写などで使われるナノインプリントリソグラフィー(NIL)法を導入。
半導体のナノ形状計測 近年、先端半導体製造技術として極端紫外線(EUV)リソグラフィーが実用化され、現在はその性能を向上させるための研究開発が活発に行われている。半導...
リソグラフィー材料、CMPスラリーや洗浄剤といったプロセス材料、実装材料など幅広い材料開発を手がけ、半導体産業のニーズを全方位でカバーできる体制で取り組んでいる」 ―2021年7月に...
光リソグラフィー手法により、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)ウエハーに約1000個のトランジスタからなる100マイクロ×60マイクロメートルのクロック回路と太陽電池を作製。
歯科医療機器を手がけるナカニシと半導体リソグラフィー用光源メーカーのギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長)が購入した。
同時に現行スパコンの高度化のために、次世代シリコン半導体や極端紫外線(EUV)リソグラフィー光源などの技術を開発する。
