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水蒸気を用いたプラズマ処理法「アクアプラズマ」は、半導体製造の金属酸化膜の還元用途以外にも新規の展開先を模索する。
入社2年目の終わりから3年目にかけ、還元能力と扱えるウエハーサイズの向上を目指したアクアプラズマ処理装置の改良に携わりました。
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水蒸気を用いたプラズマ処理法「アクアプラズマ」は、半導体製造の金属酸化膜の還元用途以外にも新規の展開先を模索する。
入社2年目の終わりから3年目にかけ、還元能力と扱えるウエハーサイズの向上を目指したアクアプラズマ処理装置の改良に携わりました。
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