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記事検索結果
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従来技術は暗号モジュールに特殊な回路を加える必要があり、計算速度が低下したり消費電力が増えたりする。
先端半導体は製造プロセスが複雑化し、回路形成や洗浄などに使用するさまざまな材料の精度要求が厳格化している。
一方、「ナノインプリント」と呼ばれる新技術を使った露光装置を10月に発売したキヤノンのブースでは同装置を使って回路を描いた半導体ウエハーを展示。
EUV露光装置は回路線幅7ナノメートル以降の回路の微細なパターンをウエハー上に転写露光する技術として先端半導体製造に不可欠となる。 ... 大日印/EUV評価用、3ナノメー...
米EFINIX(エフィニックス、カリフォルニア州、サミー・チャン最高経営責任者〈CEO〉)は、高速データ伝送に対応するプログラミング可能な集積回路(FPGA)の新製品「...
半導体の微細化が進む中、回路を形成するエッチング装置や回路の線幅などを測定する計測装置の重要性が増している。... 当社は半導体の回路線幅などを測定する測長SEMで世界シェア首位を占めており、非先端半...
EUV露光は回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細プロセスに対応する半導体加工技術。
電子部品実装機(チップマウンター)を主力とするFUJIのグループ傘下にあって、画像処理や電子回路基板などの事業を手がけるエデックリンセイシステム(愛知県豊橋市)。
TOPPAN(東京都文京区、斉藤昌典社長)は、半導体パッケージ基板のFC―BGAや、半導体回路の原板のフォトマスクを手がける。... 「米IBM(の開発向け)に回路線幅...
2024年2月に米サンフランシスコで開かれる半導体分野の権威ある国際学会、「国際固体素子回路会議」(ISSCC)の投稿論文数が過去最多となったことが分かった。... 米ISSCCは米電...
従来、シリコン光集積回路への光ファイバーや光部品の表面実装を高効率かつ広い波長帯域で実現することは難しいとされてきた。... 通常シリコン光回路はウエハー面内に形成されるが、エレファントカプラーではシ...
誤解を恐れずに言うと、現在のAIが個別分野・領域に特化したものであるのに対し、AGIは人と同じような思考回路を持ち広範なタスク(作業)を実行できるAIを指す。
同日、計算科学者が量子回路を簡単に扱える新機能を搭載した量子プログラミングソフトウエア「キスキット1・0」も発表した。... このほか、人工知能(AI)の次世代プラットフォーム(...
数十枚のウエハーを一度に処理するバッチ式では、回路形成に関わる工程の装置全体で約6割のシェアを持つ。
初回は回路線幅2ナノメートル(ナノは10億分の1)の次世代半導体の量産に挑むラピダス(東京都千代田区)の東哲郎会長に聞く。
「現在はクローラーなどの製品を提供しているが、例えば機械を勉強した人でも、ちょっとした回路設計ができたり、一つ強い専門領域を持った上で、周辺もわかるようなT型人材が理想だ」 ―人材育...
シリコン製の設計自由度が高い光回路として、半導体レーザーや光記録、量子ビット間の情報伝達などへの応用が見込める。 ... トポロジカルな性質の異なる2種類のフォトニック結晶の境界上で...
7ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の回路の微細なパターンをウエハー上に転写露光する技術として、先端半導体製造に不可欠となる。... ラピダスは回路線幅2ナノメートル以下という世界...
