- トップ
- 検索結果
記事検索結果
193件中、3ページ目 41〜60件を表示しています。 (検索にかかった時間:0.002秒)
コマツの100%子会社、ギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長)は、本社工場内に半導体リソグラフィー用光源の新生産棟を着工した。... ギガフォトンは現在...
これに、半導体加工技術のフォトリソグラフィーとドライエッチングにより微細加工し、p型、n型の熱半導体が金属電極を介しつながる「π接合」を持つ平面π型熱電素子を作製した。
ポンプレスドロップレットチップはヨダカ技研が持つ、半導体の製造工程において微細なパターンを転写する「ソフトリソグラフィー技術」を導入。
従来のフォトリソグラフィー技術よりも低い温度で作製でき、複雑な工程が不要になる上、材料の無駄がないオンデマンドな製法であるため、環境にやさしく大規模化も容易といった利点がある。
【市村産業賞貢献賞】▽トヨタ自動車・豊田中央研究所「バーチャル人体モデル」▽日本製鉄「新幹線用新型ブレーキパッドの開発」▽三菱ケミカル・HOYAグループ・富士通「電子線リソグラフィー用帯電防止材料の開...
半導体の微細化が進む中、高い感度と解像度を持つインプリアのEUV用メタルレジストを取り込み、「先端リソグラフィー分野におけるリーダーとしてのポジションを強化する」(エリック・ジョンソン最高経営...
一般的な半導体リソグラフィー設備でチップが製造できるため、製造コストも抑えることができ、規模の拡張もしやすいという。
用途に合わせて誘導体やリソグラフィーを組み合わせ、結合の化学や電荷移動の特性を設計に取り込み、無機・有機界面を調整する必要がある。
しかし、EUV(極端紫外線)装置といった最先端のリソグラフィー装置はオランダ企業の独占状態にある。かつて日本企業は世界に先駆けてリソグラフィー装置の開発に成功し、強い競争力を誇ったが、...
ArFリソグラフィー技術は高機能な半導体向けとして現在主要な製造プロセスとされる一方、第5世代通信(5G)などの普及に伴い、EUV向けフォトレジストの需要増加が見込まれている。 ...
特にEUV関連では、最先端の半導体の製造に欠かせないEUVリソグラフィー技術の研究開発が進められてきた。... ニュースバルはEUVリソグラフィーの実験、研究ができる国内唯一の施設という。... EU...
半導体材料事業については極端紫外線(EUV)、液浸フッ化アルゴン(ArF)向けリソグラフィー材料を四日市工場(三重県四日市市)で増産。
(敬称略) ▽有馬健太(大阪大学)「ナノカーボンが持つ腐食作用を逆手に取った触媒援用型ナノ化学リソグラフィー」▽角田直人(東京都立大学)...
研究グループは、有機半導体単結晶の薄膜をフッ素系高分子膜で被膜し、有機半導体でのダメージを減らせるリソグラフィー(露光によるパターン形成技術)手法を開発。
くじけず奮起「いつか世に」 (総合1から続く)東京大学工学部機械工学科に進み、卒業論文は半導体前工程のリソグラフィー関係を選びました。