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工業生産に適したフォトリソグラフィー法を使って、従来比100万倍のスピードで作る。... これまでは、実用レベルであるQ値100万以上の光ナノ共振器はすべて、電子線リソグラフィー法で作られていた。&#...
JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。
フォトリソグラフィーで作製した共振器としては世界最高となる光の閉じ込め性能(Q値=2・2×10の5乗)を達成した。
自動車向けのタイヤや合成樹脂といった石油化学系事業は厳しい環境を抜け出せないとみる半面、半導体材料は次世代のリソグラフィー材料の拡販により、もう一段の伸びが期待できるとしている。
【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線(EUV)リソグラフィー(露光)のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開...
極端紫外線(EUV)で半導体回路パターンをシリコンウエハー上に焼き付けるEUV転写技術(リソグラフィー)の実用化促進に役立つ。 ... 容器内に集光ミ...
従来のフォトリソグラフィー方式に比べ設備投資は半分以下に抑えられるという。... フォトリソグラフィー方式に比べ工程数やランニングコストも低減できる。
例えば、コンピューターの心臓部である中央演算処理装置(CPU)は、金属の配線を光リソグラフィーで加工しているが、2次元パターンしか作れない。
アクリル樹脂は3Dプリンターや光リソグラフィーでも使われており、これらの微細加工にナノインプリントを導入することも考えられる。
オジックテクノロジーズの精密電鋳は、半導体の回路製作でも使われているフォトリソグラフィー(露光)工程と電鋳工程からなる。
また周辺装置とも連携し露光工程を最適化する『ホリスティックリソグラフィー』の取り組みも強化する」 ―ArF液浸装置の今後は。
従来TFT製造に必要なフォトリソグラフィー(露光装置)が不要で、製造にかかわる装置コストを100分の1程度に抑えられる。
膜状に合成した単層CNTを基板に密着させてリソグラフィーで配線形状に加工した後、基板上の単層CNTに銅メッキすると複合材配線ができる。
SADPは通常のフォトリソグラフィー工程と同様に形成したレジストパターンをコアにし、その両端に二酸化ケイ素を成分とするパターンを形成。... 次世代技術の極端紫外線(EUV)リソグラフ...
今回はサファイア基板上に約1000度Cで7―15層のグラフェンを合成し、これを配線用基板に転写してリソグラフィーによって細線化した。
産業向けには材料分析に適した2本のほか、非破壊検査、リソグラフィー(露光)技術、高精度立体微細加工などに適した7本は全体利用時間の10%(100時間)に限り利用...
