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記事検索結果
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この材料に感光性を持たせることでリソグラフィー工程に対応し、微細な配線の絶縁材料として実用化する。
半導体の基盤となるウエハーにパターン形成を行うフォトリソグラフィー工程で使用される各種の感光性材料を対象とするフォトレジスト市場は、29年に23年比61・9%増の34億ドルとなる見通し。
続けてシリコン系ポリマーであるポリジメチルシロキサン(PDMS)を雄型に流し込み、固化した後に雄型を離型するソフトリソグラフィーを行った。
2007年ごろから精密電鋳事業において、フォトリソグラフィーによる金型作製を含む製造工程の内製化を進めてきた。... 以前は顧客や協力会社からフォトリソグラフィーで作製した金型の提供を受けていた。.....
「第2のムーアの法則」を提唱 大阪公立大学の笹子勝客員教授は、パナソニックでエキシマレーザーを使った半導体微細加工向けリソグラフィー技術を開発。
現在はビア形成にリソグラフィーを使うが、今後配線の幅と隣り合う配線同士の間隔「ラインアンドスペース」が狭まれば、リソグラフィーだけで対応できなくなる。アルバックの先進技術研究所半導体応用技術研究部第2...
光源を低出力化 沖縄科学技術大学院大学(OIST)の新竹積教授は、極端紫外線(EUV)リソグラフィー装置のミラーを4枚に削減する光学系を発明した。
微細化の要となるパターン形成が前工程の枢軸であり、EUVL(極端紫外線リソグラフィー)を使うことがステータスになっている。
しかし、描く線の幅や厚みが不均一になる問題があり、光食刻(フォトリソグラフィー)と比べて品質が劣っている。
半導体材料分野を中心にさまざまな機会を探る」 ―M&Aでは原料を含めリソグラフィーなど得意な領域を深耕するのか、他領域も視野に入るのでしょうか。
搭載するモジュールの小型化に対応するため、写真製版技術(フォトリソグラフィー技術)による加工で縦2・0ミリ×横1・6ミリ×高さ0・7ミリメートルと業界最小クラスを実...
大日本印刷(DNP)は27日、極端紫外線(EUV)リソグラフィーに対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1)世代のロジック半導体向けフォトマスク...
トッパンフォトマスク(東京都港区、二ノ宮照雄社長)は7日、米IBMと極端紫外線(EUV)リソグラフィーを使用した2ナノメートル(ナノは10億...
半導体の微細化・高集積化が進むとリソグラフィーや洗浄、研磨など前工程のサイクルを何度も繰り返すため材料需要の増加が見込める。
ガラス基板にも対応 ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...
