キヤノン、ナノインプリント半導体装置 「東芝メモリ」に納入

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キヤノンは２０日、ナノインプリント技術を使った半導体製造装置の量産モデルを、東芝の半導体子会社「東芝メモリ」の四日市工場（三重県四日市市）に１機納入したと発表した。量産モデルを工場に納めるのは初めて。今後、東芝メモリと最終段階の開発を進める。ナノインプリント装置は、型を半導体ウエハーに押しつけて回路パターンを形成する。１回で微細な回路を描けるほか、装置価格も既存の先端露光装置と比べ安く、回路形成工程のコスト低減が期待されている。

量産モデルの回路線幅は１１ナノメートル（ナノは１０億分の１）で、直径３００ミリメートルウエハーを１時間当たり８０枚加工可能。複数回の露光を繰り返して微細回路を形成するＡｒＦ（フッ化アルゴン）液浸露光装置に比べ、コストを６４％削減できるという。

キヤノンは２００４年にナノインプリント装置の研究開発に着手し、東芝は半導体メーカーとして協力してきた。