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記事検索結果
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超高純度コロイダルシリカはシリコンウエハーの精密研磨剤や化学機械研磨(CMP)用途で主に使用され、半導体の微細化の進展に伴い、引き合いが拡大。... また粒子径のばらつきは研磨時にシリ...
シリコンウエハーの材料となる「シリコン単結晶」の製造工程は、約1500度Cの極めて高い温度を要する。... 半導体チップあたりの製造コスト低減を目的に、シリコンウエハーは大口径化が進んでおり、東洋炭素...
その上で「シリコンウエハーを半導体に加工する新たな施設やクリーンルームの建設には2年から2年半かかり、既存施設をアップグレードするには9カ月から1年かかる可能性がある」と述べた。
顧客に応じ微細化レベル対応 群栄化学工業はシリコンウエハーの回路形成に使われるフォトレジスト用途の樹脂材のほか、封止材などの半導体向け材料を手がける。
前工程の半導体製造装置で、加工時シリコンウエハーから熱を逃がす部品(静電チャック)や、パソコンなど電子基板上でLED素子下の基板などに使う。
MEMS基板のシリコンウエハーに単結晶PZT(チタン酸ジルコン酸亜鉛)薄膜を生成し、圧電薄膜の性能指数(FOM)を業界最高の40―50台に高めた。... シリコンウエハ...
酸化・拡散炉内の温度を精密に制御し、シリコンウエハー上への均一な酸化膜形成に役立つ。
半導体用シリコンウエハーなどの表面状態計測向けで、原子間力顕微鏡(AFM)などと比べて測定時間が10分の1以下と大幅に短縮できる。
ローム・アポロ(福岡県広川町)の藤本武文氏は、半導体のシリコンウエハーの微細な欠陥の迅速な自動検査に適用した。
【ポジション確立】 一方、半導体の基板のシリコンウエハー表面を平たんにする研磨工程で発生する不純物を除去するための機能性洗浄剤も、高い成長が期待されている。
大容量高速通信、光導波路で安定 セーレン子会社のセーレンKST(福井市)は、シリコンウエハー上に酸化シリコンを厚膜形成するオンリーワン技術を武器に、光通信用途で成長を...
【唯一の正規品】 ペリクルは、シリコンウエハーに回路を焼き付ける露光工程で回路図原版(フォトマスク)を塵などから守るニッチな製品。... 同製品はシリコンウエハーの裏...
半導体製造工程では、イオン化したアルゴンがターゲット材にぶつかることで、ターゲット材の金属原子がはじき出され、基板のシリコンウエハー上に降り注ぎ膜ができる。
日本の素材各社は、フォトレジストやシリコンウエハー、多様な薬品類で高いシェアを持ち、長年、半導体産業の成長を支えてきた。
300ミリメートルのシリコンウエハーにニッケルアルミの薄膜を作り、その上にコバルト鉄ボロンと絶縁体などの単結晶を育てる。
信越化学工業は、2023年以降に半導体用の直径300ミリメートルシリコンウエハーの生産能力拡大を検討していることを明らかにした。... ウエハーの原料となる結晶シリコンのインゴットとシリコンウエハー、...
半導体の製造工程で使われ、シリコンウエハーに加速させたイオンを注入する装置の新工場を愛媛県に建設する。
