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露光光源に波長が193ナノメートルのフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを採用。... 露光を2回実施するダブルパターニングは従来のArF液浸露光装置で製造すると、その分、生産性が...

フッ化アルゴン(ArF)ドライ露光装置を今期5台出荷予定。

ArF液浸は増産でなく先端半導体製造用として戦略的に入れるため受注は堅調だ。ArFドライも液浸に置き換わっている」 ―経済環境が激変する中で、2工場を新設する計画の見直しは考えていないのでしょ...

最優秀賞(賞金100万円)はウシオ電機の「ArFエキシマランプの実用化による半導体製造技術開発への貢献」が、優秀賞(同50万円)はフェニックス電機の「汎用プロジェクタ用...

ニコンは12日、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した次世代半導体製造用のフッ化アルゴン(ArF)液浸スキャナー「NSR―S620」を09年1...

特に屈折率の高い純水を用いて解像度を高めるArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置などは製造コスト削減につながるため、顧客からの問い合わせは多い。... ウエハー1枚当たりのコストは、当社...

先端半導体製造に対応するArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置は1台40億―50億円するが、EUV露光装置の価格はそれ以上になると予測されている。

だが、先端・次世代半導体製造に用いるArF液浸露光装置は、全受注18台のうち16台となり、金額ベースでも87%を占めた。

ArF液浸露光装置の生産能力を倍の年90台に引き上げる。 ... 【用語】ArF液浸露光装置=回路線幅45ナノメートル世代以降の先端半導体を製造するための露光装置。光源はフッ化アルゴン...

キヤノンは08年下期(7―12月)にArF液浸露光装置を1台販売する計画。これまでArFドライ露光装置の販売実績はあったが、今年初めてArF液浸の販売実績をつくる。 ... 【...

エルピーダでは8月末までに、ASMLとニコンのArF液浸露光装置の技術評価を終える予定。... このためArF液浸の需要は拡大している。... レーザー光にArFを使う。

ニコンは6日、熊谷製作所(埼玉県熊谷市)と栃木ニコンプレシジョン(栃木県大田原市)に新棟を建設し、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置の生産能力を201...

ASEANと日米中、北朝鮮なども参加してアジア太平洋地域の安全保障問題を協議するASEAN地域フォーラム(ARF)が「信頼の醸成、対話の場」から、諸問題解決に向け「実質的な協力を進める...

オランダのASMLはフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした半導体用の液浸露光装置「TWINSCAN XT1950i」を開発した。... 09年第1四半期には現行の...

量産では半導体回路をウエハーに焼き付ける露光工程に、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を用いた2回露光(ダブルパターニング)方を採用する方針。解像度を高めたArF液浸...

ダブルパターニングでは45ナノメートルプロセス品の量産に用いるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を使用するため、従来技術を抜本的に変えずに対応できる。 ... これまで露光光...

32ナノメートルプロセスは今まで通り投影レンズとウエハーの間に純水を満たして解像度を上げるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置で対応できる。

20ナノメートル世代では、フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源に用いた従来の露光装置では、微細な回路パターンを焼き付けられない。... 現在先端を行く45ナノメートル品の製造...

フッ化アルゴン(ArF)液浸リソグラフィーを採用する。

商品化したのは、アルゴンフッ素(ArF)エキシマレーザーを光源とした45ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスに対応したもの。

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