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物質・材料研究機構の先端フォトニクス材料ユニットの間野高明主任研究員らの研究グループは、ガリウムヒ素の半導体微粒子(量子ドット)を1平方センチメートル当たり7300億個という高密度に形...

慶応義塾大学理工学部津田裕之教授と産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センターの河島整研究チーム長らが、長さ15マイクロ、幅2マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の超...

成果は光関連の国際専門誌ネイチャー・フォトニクス電子版に12日掲載される。

シリコン基板上に多数の光素子を集積するシリコンフォトニクス技術で光スイッチを作製した。

成果は科学誌ネイチャー・フォトニクスに5日掲載される。

日本市場にはファイバーレーザーを扱う米IPGフォトニクスなどが攻勢をかけている。

27日にネイチャー・フォトニクス電子版に発表する。

13日付の国際科学誌ネーチャー・フォトニクスに論文が掲載された。

産業技術総合研究所はシリコンチップ上に光回路を集積化するシリコンフォトニクス技術を使って、光集積回路(光IC)と光ファイバーを効率良くつなぐことに成功した。

10年3月期からフォトニクス事業の撤退や半導体テスターの縮小など不採算部門の見直しに取り組んでいる。

(木曜日に掲載) ◇産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター光信号処理システム研究チーム長 並木周 ...

東京大学と内閣府・最先端研究開発支援プログラム「フォトニクス・エレクトロニクス融合 システム基盤技術開発プロジェクト(PECST)」は11月14日と15日、東京大学でフォトニク...

NTTフォトニクス研究所は、シリコンよりも高い性能が引き出せる化合物半導体のインジウム・リンを使った高速トランジスタを開発し、これを1000素子集積したDACのICチップを試作した。 ...

荒川教授を中心研究者とし、NEC、NTT、OKI、日立製作所、富士通などで構成する光電子融合基盤技術研究所、産業技術総合研究所などが協力する産学官オールジャパンのプロジェクト「フォトニクス・エレクトロ...

富士通研究所(川崎市中原区、富田達夫社長、044・754・2613)は、LSIチップ間を光で接続(光インターコネクト)するために必要な小型のシリコンフォトニクス光源を開...

物質・材料研究機構、先端フォトニクス材料ユニットの岩長祐伸主任研究員は、差し込んだ光が入ってきた方向に曲がる「負の屈折現象」というメタマテリアル材料に特有の現象が、逆の方向に進む光の流れが要因で起きる...

(ネイチャー・フォトニクス)

(ネイチャー・フォトニクス)

現在、有機電子デバイスへの応用・機能評価を進めており、将来のエレクトロニクス・フォトニクス分野で重要な役割を果たし得る機能性有機元素化合物として期待される。

(ネイチャー・フォトニクス電子版)

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