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記事検索結果
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露光装置メーカーでは『09年に大きく落ち込んで2010年に急激に戻る』とし、成膜装置メーカーやフォトマスクメーカーでは『2010年まで微減、1ケタのマイナス』と見ている。
富士通マイクロエレクトロニクスとイー・シャトル(川崎市中原区、土川春穂社長)は9日、フォトマスクを用いずシリコンウエハー上に半導体回路を描画する「電子ビーム直描装置」の生産性を最大10...
凸版はフォトリソグラフィー方式の製造方法を採用しており、インクジェット方式を採用する大日印よりも収率で高く、「収益力は当社の方が良い」(垣谷英孝取締役)と見ている。ただ、半導体フォトマ...
04年の米デュポンフォトマスク買収以来、半導体フォトマスクは依然として凸版の方が事業規模は大きく、エレクトロニクスは売上高では一貫して凸版が優位に立っている。
薬液やフォトマスクなどが不要なため、廃液処理設備などの初期投資費用が少なくて済む。... 既存の製造プロセスではフォトマスクの製造や、レジストの塗布・はく離といった薬品を利用する工程があった。
《大日印、被害なし》 大日本印刷では、半導体フォトマスクを製造し、全量を東芝グループに納入するディー・ティー・ファインエレクトロニクス(岩手県北上市、岩手東芝エレクトロニクス内)...
凸版印刷は、米IBMと回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスクの製造プロセスを共同開発する。月内にIBMのバーリントン・フォトマスク工場(米バ...
凸版印刷は12日、光の透過部であるガラス基板と遮光部の2層で構成される「バイナリータイプ」で、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスクを製造する技術を...
【横浜】レーザーテックは大型フォトマスク基板の欠陥検査装置「LB79=写真」を発売した。第10世代液晶ガラス基板の大型フォトマスク向け。... フォトマスクのベースとなるガラス基板の欠陥を検査...
またフォトマスク用保護膜など材料系の製品で生産能力の増強と製品の拡販を進める。... 材料系では11月に第10世代の大型液晶ガラス基板に対応したフォトマスク用保護膜の新生産ラインを稼働させるほか、超極...
【横浜】ニューフレアテクノロジーは従来の3倍以上の速度でフォトマスクの回路パターン欠陥を検出する装置「NPI5000PLUS」を開発した。... 光線によるフォトマスクの欠陥検査では、波長の4分の1が...
【横浜】レーザーテックは今後実用化される第10世代(ガラス基板サイズ2850ミリ×3050ミリメートル)以降の液晶用フォトマスク欠陥検査装置「LI712=写真」を発売...
一方で、回路をウエハーに焼き付ける際に原版となるフォトマスクが不要になるため、チップ数が10万個以内の多品種少量生産ではコストを削減できる。
従来の加工法であるウェットエッチングのように、フォトマスクを使用する必要がないためコストが下がり、納期も2カ月短縮できるという。
【京都】日本電産リードはフォトマスク外観検査装置「マスクビュー=写真」シリーズ3機種を発売した。線幅3マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の高精細フォトマスクに対応。....
【横浜】レーザーテックは、フォトマスクの位相差と透過率の測定装置「MPM193EX=写真」を発売した。... 設計を工夫し、ペリクル(防塵用保護膜)を付けたフォトマスクの測定も...
