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住化、6インチGaN基板開発 28年度量産化を目指す (2024/11/26 素材・建設・環境・エネルギー2)

NEDOのプログラムでは、GaN基板とGaN成長層のそれぞれで技術改良に取り組む。GaN基板ではGaN結晶の長尺化や品質向上などを狙い、GaN成長層では改良したハイドライド気相成長(HVPE&...

半導体業界における活用事例として、窒化ガリウム(GaN)結晶成長の最適化を取り上げる。 ... GaN結晶成長は化学気相成長法によってなされるが、Si結晶と比較し速度...

JX金属、独拠点に先端半導体向け設備 (2024/11/19 素材・建設・環境・エネルギー2)

CVD・ALDプリカーサ材料の供給力強化 JX金属のグループ会社である独タニオビスは、独ゴスラーの拠点に次世代半導体向け化学気相成長法(CVD)・...

東ソー、GaNスパッタターゲット材を山形で生産開始 パワー半導体向け (2024/11/12 素材・建設・環境・エネルギー2)

従来の化学気相成長法(CVD)と同等の高結晶性GaNの成膜が可能で、コスト削減に寄与する。

イーディーピー、ダイヤウエハー大型化 年度内に「1インチ」開発 (2024/10/10 電機・電子部品・情報・通信2)

ダイヤモンドウエハーは種結晶を気相成長させ、成長した結晶を電解エッチングで分離して作製する。... 種結晶の大型化は側面の気相成長を繰り返すが、種結晶が大きくなるほど成長の際に結晶欠陥が入りやすい。半...

日本コーティングセンター、デンソーと被膜技術開発 (2024/10/9 機械・ロボット・航空機2)

物理気相成長(PVD)法による複層コーティング被膜で、ドリルやエンドミルなど向け。

【松山技研/用途別PVDコート】 松山技研(長野県上田市)は、冷間金型や樹脂金型、高機能部品など用途に応じた物理気相成長(PVD...

現在は同合成法と化学気相成長法(CVD)が主流で、低コスト化が進み幅広い産業分野で活躍している。

VACUUM2024真空展/半導体製造、省エネ後押し (2024/9/19 機械・ロボット・航空機1)

今後も成長が見込まれる半導体需要を取り込もうと、担当者のPRにも熱がこもる。... ドライ真空ポンプ「EV―X型」は、半導体製造の化学気相成長(CVD)やエッジング向けに、「長寿命化と...

東研サーモ、東住吉工場を産学拠点に ダイヤ成膜を高機能化 (2024/9/19 機械・ロボット・航空機1)

25年4月にDLCと物理気相成長(PVD)の各装置を、同年夏にDLCも兼ねるPVD装置を導入する。

住友電気工業/耐摩耗性向上 切削工具インサート (2024/9/16 新製品フラッシュ2)

独自の化学気相成長(CVD)被膜技術で結晶の配向性の制御を高度化したアルミナ層と、耐塑性変形性に優れる新超硬母材を組み合わせることで耐摩耗性を向上。

タンガロイ、安定・耐摩耗性アップ 面取りヘッド (2024/8/29 機械・ロボット・航空機1)

AH715は積層構造の物理気相成長(PVD)コーティング膜と、耐摩耗性と耐欠損性のバランスに優れた専用超硬母材を組み合わせており、高速加工でも安定した長寿命が期待できる。

住友電工、耐摩耗性向上の鋼旋削チップ (2024/8/27 機械・ロボット・航空機1)

独自の化学気相成長(CVD)被膜技術で結晶の配向性の制御を高度化したアルミナ層と、耐塑性変形性に優れる新超硬母材を組み合わせることで耐摩耗性を向上した。

タンガロイ、ドリル刃先交換チップ拡充 PVDコートで長寿命 (2024/8/21 機械・ロボット・航空機2)

タンガロイ(福島県いわき市、木下聡社長)は、刃先交換式ドリル「タングドリル・ツイステッド」シリーズ用のインサート(刃先交換チップ)に、物理気相成長&...

タンガロイ、エンドミルに新材種ヘッド (2024/7/8 機械・ロボット・航空機1)

同材種は積層構造の物理気相成長(PVD)コーティング膜と、耐摩耗性や耐欠損性のバランスに優れた専用超硬母材を組み合わせた。

タンガロイ、後挽き用工具を拡充 切りくず処理良好 (2024/7/3 機械・ロボット・航空機1)

インサート材種には物理気相成長(PVD)材種「SH7025」を採用。

タンガロイ、突切り工具にPVD材追加 (2024/6/25 機械・ロボット・航空機1)

タンガロイ(福島県いわき市、木下聡社長)は、高精度な溝入れや突切り加工用工具「テトラ・フォース・カット」用のインサート(刃先交換チップ)に、物理気相...

三菱マテ、仕上げ加工向けブレーカー追加 (2024/6/20 機械・ロボット・航空機1)

三菱マテリアルは小物高精度部品旋削加工用の物理気相成長(PVD)コーテッド超硬材種「MS9025」に、インサート(刃先交換チップ)「SRFブレーカイ...

JX金属、次世代半導体向け材料増産 茅ケ崎などに設備 (2024/6/20 素材・建設・環境・エネルギー1)

JX金属は次世代半導体向けに、薄膜形成プロセスで用いられる化学気相成長法(CVD)・原子層堆積法(ALD)材料の生産能力を増強する。... 高性能な先端素材の開発供給を...

新開発の「低温TiC―X」は、物理気相成長(PVD)による低温炭化チタン(TiC)コーティング膜。... 表面処理はPVDと化学気相成長法(CVD)の双...

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