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記事検索結果
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急激に発達する積乱雲に伴い発生するこれらの極端気象は、河川の氾濫や土砂災害を引き起こし、人々の生活に甚大な被害をもたらすことがある。 ... 今後は、マルチパラメーターライダーを中心...
環境非政府組織(NGO)のグリーンピース東アジアは、2030年に温暖化による極端な海面上昇がアジア7都市に与える経済的影響を予測した報告書を公表し、東京都の被害が680億ドル(...
融点2334度Cの特徴を生かし、最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス関連で採用を増やす。
JSRは液浸フッ化アルゴン(ArF)向けフォトレジストで世界シェアトップ、最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストでも上位に位置する。
大日本印刷は、キオクシアホールディングス(旧東芝メモリホールディングス)、キヤノンと共同で開発を進める「ナノインプリントリソグラフィ(NIL)」での半導体製造が極端紫外...
従来の露光方法向け製品は複数社が供給しているが、最先端の超微細回路を実現するEUV(極端紫外線)露光向けは三井化学が唯一の“正規品”サプライヤーとなった。
最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス向けで、ウエハーに回路図を焼き付ける時の原版(フォトマスク)の母材市場に新規参入。
二酸化炭素(CO2)が増え、温暖化も緩やかに起きているがカーボンニュートラル(温室効果ガス排出量実質ゼロ)の極端な目標を正当化できる科学的知見はない。
同研究所は、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)以下を目指す蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を2023年に稼働予定。
AGC、フォトマスク母材拡販/三井化、保護膜“正規品”生産 極端紫外線(EUV)露光プロセス向け半導体材料・部材の需要が拡大してきた。
三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。
より柔軟な運転スケジュールを計画できるようになるため、国内外の企業などでの研究が加速されそうだ(姫路・岩崎左恵) 大型放射光施設のスプリング8が硬X線の超高輝度放射光...
本当に必要とされているのは、従来の方法に選択肢を縛られ、どちらか一方に極端に偏ることなく、環境や事業の要請に応じて最適な戦術を取る柔軟な姿勢だと思う。
