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記事検索結果
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EUV露光装置を手がける蘭ASMLが、露光工程の歩留まり低下を防止する「ペリクル(防塵カバー)」を量産用途のEUV向けで初めて開発した。... 露光工程の生産性向上には欠かせない。.....
住友化学は、回路パターンを転写する露光工程用レジスト(感光材)などを増産。... また、三菱ガス化学は台湾で、半導体製造工程材料向けに過酸化水素の生産体制を増強する。 ...
大阪工場(大阪市此花区)で回路パターンを転写する露光工程用レジスト(感光材)生産設備を拡充し、20年に本格稼働させる。... 大阪工場では、高機能な半導体の主要な製造プ...
化学各社は最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光工程向け素材の供給体制を整備する。... EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場...
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
2016年に京セラグループの光学部品子会社「メレスグリオ」を吸収合併し、前工程の露光工程で使用する大口径レンズ技術を取り込んだ。旧メレスグリオは基板の回路パターン描写に使用する露光用の大口径レンズに強...
フォトマスクは、液晶パネル内の薄膜トランジスタ(TFT)アレイやカラーフィルターを製造する際の露光工程で使用する。
例えば、露光工程前にバーコードでのマスクの照合作業を導入し、取り違えミスを減らした。
キヤノンはナノインプリント露光装置を次世代の主力事業に育てる ■再建の柱、収益力上げる 東芝は17日に建設を発表した新工場(三重県四日市...
東京応化工業は半導体の微細な回路パターンの形成工程に使うフォトレジストの製造販売を主力とする。... 特に同子会社には最先端の露光装置を導入。顧客側の露光工程の条件に近くなるため、レジストの調整に要す...
オジックテクノロジーズの精密電鋳は、半導体の回路製作でも使われているフォトリソグラフィー(露光)工程と電鋳工程からなる。露光は合志事業所のクリーンルームで実施している。 ...
―ナノインプリント技術を掲げ半導体露光装置の先端分野に再参入します。... 15年度にはArF液浸と同水準のスループット(時間当たりの処理能力)を実現したい」 ...
◆ ―EUV(極紫外線)露光装置の開発状況は。 ... また周辺装置とも連携し露光工程を最適化する『ホリスティックリソグラフィー』の取り組みも強化す...
年内にウエハーに回路を形成する露光工程の微細化を進めるための共同研究に着手。... キヤノンは先端技術を採用した新製品で露光装置事業の巻き返しを狙う。... 共同研究するのは「ナノインプリント」と呼ば...
従来手法と一線を画す次世代露光技術で、最先端の微細化を目指す。... 半導体製造ではウエハーに回路を形成する露光工程が最も重要で、微細化のカギも同工程が握っている。... 【露光装置、蘭ASML先行−...
実際に目白プレシジョン(東京都江東区)と、サーマトロニクス貿易(同)は、露光工程向け装置を一括して提供できる体制を整えるため12月1日付で合併した。
