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【京都】サムコは窒化ガリウム(GaN)を材料とするパワー半導体用ウエハー向け薄膜成長装置に参入する。マルチチャンバータイプのMOCVD(有機金属化学気相成長法)装置を投...

【川越】高純度化学研究所(埼玉県坂戸市、宝地戸道雄社長、049・284・1511)は年内をめどに、物理気相成長法(PVD)向けに、付着させる薄膜成分を含んだ300ミリメ...

開発したルテニウム材料は、回路線幅20ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の次世代DRAMに使われる、MOCVD(有機金属化学気相成長法)の成膜材料(プリカー...

テクノロジー部門最優秀賞に選ばれたのは大阪大学大学院・滝野淳一さんらのGaN(窒化ガリウム)単結晶作製技術「OVPE法」の実用化。気相成長法により市販のGaN基板よりも、安価で大口径な...

化学気相成長法(CVD)により、シリコン、ニッケル(Ni)かコバルト(Co)の化合物を成膜できる。

採用されたのは、金型の表面にプラズマ蒸着による物理気相成長法(PVD)で成膜する技術。

「相変化メモリー関連の開発依頼が増えそうだ」と期待するのは、気相成長(東京都小金井市)社長の町田英明さん。気相成長法での成膜や材料開発を手がける。

成長著しい中国のLED照明市場を日系メーカー各社はどのように攻略するのか。... この過程で用いるのがMOCVD(有機金属化学気相成長法)装置。

化合物半導体の代表的な結晶成長方法である有機金属気相成長法(MO―CVD法)に欠かせない原料となっている。

イオン窒化、ラジカル窒化、物理気相成長法(PVD)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)処理などの専門工場にする。

化合物半導体を製造する有機金属気相成長法(MOCVD)装置を導入し、380ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の波長でRGB3原色をすべて出せる紫外線(UV&...

数少ない成長産業である発光ダイオード(LED)。... 最終的により大量生産できる有機金属気相成長法(MOCVD)で作れるようにしたい」(同)という。....

講演テーマは(1)DLC(ダイヤモンドライクカーボン)被膜の電気的特性(2)コロイド溶液を利用したプラズマCVD(科学気相成長)法による...

これにより、高温環境を伴う化学気相成長法の一つであるプラズマCVD法にも適応できるため、形成する回路の品質向上に貢献する。

まずガリウム・ヒ素の基板上に、汎用的な有機金属気相成長法(MOCVD)を使い、インジウム・ヒ素とガリウム・ヒ素の量子ドットのレーザー層を作る。

既存棟にはチップ生産能力倍増を狙いMOCVD(有機金属気相成長法)装置を導入する。... 道路用・産業用LED照明市場の成長を背景に、照明モジュールを中心としたLED事業の拡大を目指す...

この第2工場に有機金属気相成長法(MOCVD)装置などを新たに導入してLED工場として活用する。

木を熱で炭と炭化水素ガスに分解し、ガスから触媒気相成長法でナノカーボンを作る。

綿毛や羊毛に入り込んだ土や砂などを取り除く紡績針の耐久性を高めるために、自社でパルス放電によるプラズマCVD(化学気相成長法)被膜装置を開発し、DLC被膜加工を始めた。

量産に向け有機金属気相成長法(MOCVD)装置を導入し、まずは自社の液晶テレビのバックライト向けに、その後は照明向けに展開する。

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