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同社は新たに約200億円を投じ、ウエハー研磨剤(CMPスラリー)の生産能力を従来比2割引き上げることを決めた。
納期が長期化している案件もあるので、生産台数をさらに上げたい」 ―化学機械研磨(CMP)装置では熊本県南関町の工場の生産能力を5割増強する投資を決めました。 ...
荏原は14日、半導体製造装置の化学機械研磨(CMP)装置の生産能力を現状の1・5倍以上に増強すると発表した。... CMP装置は半導体のウエハーを研磨する...
同社は半導体材料メーカーで、多層な半導体の平面研磨(CMP=化学的機械研磨)を行う際の砥粒(とりゅう)として使用されるコロイダルシリカのトップメーカーである。コ...
フォトレジストやCMPスラリー、ポリイミドなど手がけているが、技術力を高めて製品の幅を広げ、より強い推進力にしていきたい」 ―海外売上高比率が60%と高いです。
昭和電工マテリアルズは半導体ウエハー研磨剤(CMPスラリー)やダイボンディング材料、パッケージ基板用銅張積層板など複数の製品で、世界シェアトップ級。20年12月には台湾と韓国でのCMP...
また、両社の技術が交わる半導体ウエハー研磨剤(CMPスラリー)では機能向上の成果が出ており、さまざまな段階で交流が進む。
ウエハー研磨剤(CMPスラリー)やパッケージ基板材料など世界1―2位の製品を複数抱えており、作り負けないことが重要だ。 ... 山下は「米国にはCMPスラリ...
昭和電工マテリアルズの半導体材料は、半導体ウエハー研磨剤(CMPスラリー)や封止材、パッケージ基板向け銅張積層板、感光性フィルム、ダイボンディング材料など高シェア製品が複数あり、昭和電...
富士フイルムは、半導体の主要製造プロセス材料のフォトレジストやウエハー用研磨剤(CMPスラリー)などを手がける。中でも銅配線層の平坦化に使われるCMPスラリーは世界トップシェ...
昭和電工マテリアルズはシリコンウエハー用研磨剤(CMPスラリー)や研磨剤、パッケージ向け銅張積層板、ダイボンディングフィルム、感光性フィルムなどの複数製品...
超高純度コロイダルシリカはシリコンウエハーの精密研磨剤や化学機械研磨(CMP)用途で主に使用され、半導体の微細化の進展に伴い、引き合いが拡大。
半導体製造の前工程向けのウエハー用研磨材(CMPスラリー)の増産などに232億円、後工程向けの銅張積層板などの増産に248億円を投資する。
同事業主力の化学機械研磨(CMP)装置については「すでに増設したが、必要に応じてさらに1ライン増やすことも視野に入れている」(永田修執行役グループ経営戦略・人事統括部長)...
みつわポンプ製作所は化学的機械研磨(CMP)スラリーや酸などの流体物を移送する縦型自吸式ポンプ「マジカルポンプ」を発売した。
同社はウエハー研磨材のCMPスラリーもセリア系砥粒(とりゅう)を用いる最先端品に絞って展開する。
