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記事検索結果
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池上通信機は小型3相補型金属酸化膜半導体(CMOS)フルHDカメラ「MKC―X300」と液晶カラーモニター「MLW―2760C」を開発した。
アルミへの、ハンダ付けは従来、表面に強力な酸化膜があるために実施が難しかった。石川金属は、特殊フッ素化合物の活性剤を使用することで、酸化膜を除去できる技術を確立。
ロームの1200ボルトクラスのSiC金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)と、650ボルトクラスのSiCショットキーバリアダイオード(SBD)が、ハイコの...
パワー半導体デバイスでは、電極やゲート酸化膜付近の局所部に作用する応力が半導体チップの損傷やデバイスの性能に大きく影響を与える。... またSiC以外に窒化ガリウムや酸化ガリウム、ダイヤモンドなどの半...
金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)といったディスクリート(個別)半導体やコネクター、コンデンサーなどを用意する。
ショットキーバリアダイオード(SBD)と金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)の650ボルトクラスと1200ボルトクラスの製品。
エックスアイは人の骨格を検知する相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーとAI、米グーグルの基本ソフト(OS)「アンドロイド」専用端末などで構成。
池上通信機は小型3相補型金属酸化膜半導体(CMOS)フルHDカメラ「MKC―230HD=写真」が米リモート・メディカル・テクノロジーズ(RMT、ニュ...
平塚事業所(神奈川県平塚市)では相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの新工場を建設中で、23年12月期の投資額は約400億円とみられる。
キヤノンは監視用途に適した相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーの新製品(写真)を開発した。
しかし、回路を構成するシリコン酸化膜を作るとき、結晶構造にあるべき原子が抜けた「欠陥」が生じることがある。 ... このため私たちはSPring―8の放射光(加速器により生み...
これらを相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスでICを作製し、性能や低消費電力性などを実証した。
日本原子力研究開発機構の吉越章隆研究主幹らは、半導体産業を支えるシリコンの酸化膜が成長する機構を明らかにした。... これまでに酸化膜とシリコン基板の界面にある欠陥で酸素分子が反応...
東芝デバイス&ストレージは低耐圧の金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)や小信号デバイスなど、一つの素子に端子などを付けて樹脂でパッケージするディスクリート半導体...
リアカメラは、ソニーの高感度相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサー「STARVIS(スタービス)」を採用し、夜間でも明るく高画質に録画する。
マグネシウムやその合金は鉄素材に比べ、酸化までの時間が短い。入荷時すでに表面に酸化膜があり、均一に除去しなければならない。
【福井】セーレングループのセーレンKST(福井市、亀井洋次郎社長)は1億5000万円を投じ、絶縁膜上シリコン(SOI)ウエハーの製造能力を従来比3倍に増強した。... ...
シリコン製の半導体デバイスや相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー、微小電気機械システム(MEMS)など、幅広い用途で使用できる。
シリコン窒化膜に強く吸着する独自の樹脂を含有した。シリコン窒化膜上に選択的に保護膜を形成しつつ、シリコン酸化膜のエッチング速度に悪影響を与えない。溶かしたい膜と溶かしたくない膜の溶解速度の比である「選...
ノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市、倉又朗人社長)は、酸化ガリウム反転型ダブルインプランティド金属酸化膜半導体(MOS)トランジスタを試作した。
