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記事検索結果
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珪樹は薄膜のシリコーンゴムフィルムで、シリコーンゴムの厚さは30マイクロ―1000マイクロメートル(マイクロは100万分の1)。
ミストデポジション法は透明かつ電気を流す透明導電性薄膜の製造法として開発された。透明導電性薄膜はテレビやスマートフォンといった表示デバイスの材料になり、環境に配慮した製造プロセスが求められている。
その理由は、スピンカロリトロニクス機能の多くがナノスケールの薄膜や界面においてのみ発現し、熱工学応用に不可欠なマクロスケールの材料へのスケールアップは不可能だと考えられているからである。 ...
6G通信基板に提案 【京都】魁半導体(京都市下京区、田口貢士社長)は、フッ素樹脂(PTFE)基板と銅薄膜の接合を独自のプラズマ処理と熱圧着で可能にする...
有機半導体は大型ディスプレーやデジタルサイネージのほか、低コストのセンサーネットワーク、薄膜太陽電池など幅広い用途が見込まれる。
組成が徐々に変化する薄膜を繰り返し作製して、その性質を検討することで、未知の性質を有する材料の探索を進めている。
接着テープに貼り付けた2D半導体結晶に対して剥離を繰り返して薄くした後、基板上へと転写する簡単な方法により、良質な結晶性の極薄膜が得られる。
フラーレンを用いた通常のペロブスカイト太陽電池はフラーレンの結晶化のため薄膜形態が変化し、性能が低下する課題があった。 ... このフラーレン誘導体の薄膜は真空蒸着直後も150度Cに...
厚さ12マイクロメートル、貼り付け機も開発 リンテックは厚さ12マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の薄膜ラベル素材「PET12マイクロメートルラベル」と、専...
HDDでは、ナノサイズの磁性体が薄膜状に塗布された円盤状のデバイスに、磁気的に情報を格納する(図1a)。... NIMSではHDD高密度化の鍵となる熱アシスト磁気記録媒体のプロトタイプ...
薄膜太陽電池用レーザーパターニング装置の技術を用いた研究開発用装置は展開済みで、量産用装置も開発中。
成膜方法の一つであるスパッタリングにおいて、薄膜を形成するために用いられるスパッタリングターゲットの最大手であるJX金属。... 今後の需要見通しや戦略などについて、諏訪邉武史執行役員薄膜材料事業部長...
迫田研究員らは有限要素法による試料設計に基づき、電子線リソグラフィーで厚み0・4マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のシリコン薄膜をナノ加工してフォトニック結晶を作製した。...