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タンガロイ、厚膜で耐摩耗性向上 (2021/3/11 機械・ロボット・航空機2)

タンガロイ(福島県いわき市、木下聡社長、0246・36・8501)は、鋳鉄旋削加工用インサート(刃先交換チップ)の化学気相成長(CVD)コーティング材種...

三菱マテ、鋼旋削用の超硬材種を発売 (2021/3/8 機械・ロボット・航空機2)

三菱マテリアルは鋼旋削加工用の化学気相成長(CVD)コーテッド超硬材種「MC6125=写真」を発売した。... また表面平滑化処理により、急激な摩耗成長がなく、安定した加工を実...

新工場には一宮工場の物理気相成長(PVD)コーティング装置3台を移すほか、窒化装置や測定装置を新規導入する。

ジャパンクリエイト、エッチング装置強化 AMTIから事業買収 (2020/12/17 電機・電子部品・情報・通信1)

AMTIはプラズマ制御によるCVD(化学気相成長)装置などに強みがあり、ジャパンクリエイトでは自社の半導体ウエハーエッチング装置の強化につなげる。

ダイジェット、刃先交換チップ新材種 ボールエンドミル用 (2020/12/10 機械・ロボット・航空機1)

耐摩耗性などに優れた専用母材に耐酸化性、密着性に優れた物理気相成長(PVD)コーティング「DH1コート」を組み合わせ、乾式・湿式加工で同社従来品比2倍以上の寿命向上を実現した。 ...

JFEスチール、小型・高速対応モーター磁性材 (2020/12/7 素材・医療・ヘルスケア)

鉄損の低減には、電気抵抗を高めるシリコンを多く添加することが有効で、独自開発の化学気相成長(CVD)連続浸珪プロセス技術で解決した。

これらを結晶成長させて太陽電池構造にする成膜コストと、結晶成長の基になるGaAs基板が非常に高価である。 従来の成膜技術に比べ安価な原料が使用可能で、成膜速度が非常に速いため90&#...

超硬チップはCVD(化学気相成長)膜で耐摩耗性を高めた新材種を加え、鋼加工用のラインアップを広げた。

「スミボロンBNS8125」と、物理気相成長(PVD)による窒化チタンアルミニウム系コーティングを施した「コーテッドスミボロンBNC8115」の2製品で、それぞれ29型番。

サムコは窒化ガリウム(GaN)などの化合物半導体デバイスの中規模量産に対応した化学気相成長(CVD)装置やドライエッチング装置の提案を始めた。... 関連装置の売上高は...

アリオス/高品質ダイヤ合成実験可能に アリオス(東京都昭島市、042・546・4811)は、ダイヤモンド合成用化学気相成長(CVD)装置&#...

安価な材料で高速に成膜できる「ハイドライド気相成長(HVPE)法」を利用し、太陽電池の高効率化や薄膜化に必要なアルミニウム系材料の成膜装置を作製。

エレクトロニクス応用ではグラフェンは化学気相成長法により1000度C程度の高温で銅箔(はく)上に合成し、シリコンウエハーに転写して成膜するが、転写工程で生じる金属や有機物の残渣(...

三菱マテ、鋼旋削向け超硬材種を発売 高速加工に対応 (2020/10/13 機械・ロボット・航空機2)

三菱マテリアルは、鋼旋削加工用の化学気相成長(CVD)コーテッド超硬材種「MC6115」を発売した。... また、コーティングの付着強度を高める新しい結合相と、コーティング層の引っ張り...

タンガロイ、平面加工用カッターに大径サイズ追加 (2020/9/15 機械・ロボット・航空機2)

インサートには、鋼加工用物理気相成長(PVD)材種、高硬度部材加工用PVD材種、鋼仕上げ加工用サーメット材種を追加した。

薄膜層形成に表面処理技術を応用することで、化学気相成長(CVD)などの方法と比べて生産コストを半分程度に抑え、性能と品質を安定させる。

三菱マテ、小物用超硬材種発売 振動切削も安定加工 (2020/7/21 機械・ロボット・航空機1)

三菱マテリアルは20日、小物高精度部品旋削加工用の物理気相成長(PVD)コーテッド超硬材種「MS9025」インサート(刃先交換チップ、写真)を発売したと発表した。

三菱マテ、難削材転削加工用の刃先交換チップ (2020/7/16 機械・ロボット・航空機1)

三菱マテリアルは15日、難削材加工用ラジアスカッター「ARPシリーズ」用に、難削材転削加工用の物理気相成長(PVD)コーテッド超硬材種「MP9140」インサート(刃先交換チップ...

サムコ、CVD装置デモルーム (2020/7/3 電機・電子部品・情報・通信)

【京都】サムコは半導体などの薄膜を形成する化学気相成長(CVD)装置の性能を実機で確認できる「デモルーム=写真」を開設、10日から運用する。

『NEO C』と呼ぶ化学気相成長(CVD)方式によるダイヤモンドライクカーボン(DLC)の設備と、物理気相成長(PVD)方式による成膜のセラミッ...

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