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記事検索結果
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オランダの半導体露光装置メーカー、ASMLホールディングは、今週発生した火災でベルリン工場の一部を閉鎖した。... 同工場はASMLの先端EUV(極端紫外線)装置に使うウエハ...
半導体製造装置用露光装置や、カメラなど光学装置の内側への表面処理などに提案。... 金星(東京都千代田区)は、超音波ガス搬送式粉末供給装置を紹介した。
装置メーカー各社は急ピッチで対応を進めている。... 露光装置最大手の蘭ASMLは、部材の逼迫に加え、物流管理センターの立ち上げに問題が生じたことで、一部装置の組み立て開始が数週間遅れた。... しか...
部材不足が原因で同社の装置の納期が長期化する中、顧客が装置を先行確保しようとする動きが広がっていることが理由の一つ。... 露光装置最大手の蘭ASMLは受注残が196億ユーロ(約2兆5700億...
露光装置など大型設備を数多く使用するため、巨額の投資が必要だ。... 第2波の陰で問題が大きくなりつつあるのが半導体製造装置の長納期化だ。... その中でも、特に需要が旺盛な半導体製造装置の部材不足の...
電動はアクチュエーター(駆動装置)の中で最も活用領域を広げている動力源と言える。... これらの特徴が機械装置に重宝され、空気圧や油圧に一部、取って代わっている。 ....
最も市場規模が大きい露光装置では蘭ASMLが圧倒的シェアを握るが、日本企業がほぼ独占する市場も多い。... TSMCの新拠点は日本の装置メーカーにとって当然プラス。... 装置メーカーの眼力が問われる...
各地域でフルサイズミラーレスカメラや交換レンズの販売が好調だったほか、メディカルや半導体露光装置なども売り上げを伸ばした。
従来の露光方法向け製品は複数社が供給しているが、最先端の超微細回路を実現するEUV(極端紫外線)露光向けは三井化学が唯一の“正規品”サプライヤーとなった。... 同社はEUV露光装置メ...
これを受け、半導体メーカーがEUV露光の適用レイヤー(層)数を増やし、露光装置の導入を拡大する公算が大きい。EUV露光の拡大は検査装置など周辺装置メーカーにとってもプラスで関連市場全体...
同研究所は、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)以下を目指す蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を2023年に稼働予定。... 露光装置と塗布現像装置の一体...
微細化の実現に向けては露光装置が最重要視されるが、同社は成膜、塗布・現像、エッチング、洗浄の各装置を駆使。... ニコンの精機事業の研究開発費は、半導体・フラットパネルディスプレー(FPD&#...
フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置などの旧式機種の売り上げが当初想定より伸びているとみられる。 ... ディスコは、ロジック向けの装置需要が引き続き高水準なほか、メ...
三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASML...
ウシオ電機は、分割投影露光装置「UX―5シリーズ」の生産能力を増強するため、御殿場事業所(静岡県御殿場市)に15億円の設備投資を行う。
先端半導体の生産に欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程でも、日本の装置メーカーの存在感は大きい。 最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検...
