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記事検索結果
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既存の事務所を格上げし、半導体業界向けCMPスラリー(化学的機械研磨材料)などの需要増に対応していく。... CMPスラリーは半導体製造工程で基板を平らにする際に使う。
国立環境研究所は、カタールのドーハで26日に始まる「国連気候変動枠組み条約第18回締約国会議(COP18)」と「京都議定書第8回締約国会合(CMP8)」で、アジアの低炭...
まずCMPスラリー(化学的機械研磨材料)を皮切りに、14年から現像液やクリーナー、エッチング液も順次生産する。... CMPスラリーは半導体製造工程で基板を平坦にするため使うもので、半...
日本精密電子は半導体ウエハーに回路を書き込んだ後に表面を平たんにするCMP(化学的機械的平たん化装置)のメーカーに対し、ウエハーを固定して端の反り返り(エッジバウンド)...
富士フイルムは30日、台湾の子会社で半導体製造プロセス用のCMPスラリー(化学的機械研磨材料)の商業生産を始めたと発表した。... 台湾での拡販も含め、2012年度にCMPスラリーの売...
さらにミャンマーのヤンゴン管区幹部によると、同国でCMP(カッティング・マニュファクチャリング・パッキング)と呼ばれる委託加工ビジネスについて、「税金減免期間を現行の3年から8年に延長...
CMPスラリーの世界シェアは現在1割だが、2割にまで伸ばす方針だ。 ... 台湾工場の稼働当初は日本でこの機能を担うが、最終的には台湾で製造するCMPスラリーは現地で開発する。 ......
三菱マテリアルとノリタケが、半導体ウエハー研磨用CMP(化学機械研磨)コンディショナーのダイヤモンド粒子固定用メッキに採用する。... 従来のニッケルメッキはCMPに使う過酸化水素によ...
日立化成工業は20日、台湾の台南地区に約20億円を投じて半導体回路平坦化用研磨材料(CMPスラリー)の生産拠点を新設すると発表した。... 日立化成はSTI用のCMPスラリーで世界トッ...
JSRは中国からの調達に依存するレアアース(希土類)を使わずに、半導体の回路を平らにする研磨材(CMPスラリー)を開発した。
日立化成工業は半導体用研磨剤のCMPスラリーについて同社の米国特許を侵害しているとし、韓国のK.C.Tech(ケイシーテック)を米テキサス州オースティンの西部地方裁判所...
ただ取締役常務執行役員の辻村学さんは「CMP(化学機械研磨)装置は、まだ“メタボリック”」と生産効率化の必要性を強調する。 これまでCMPは「顧客の要求を満たす性能を追求してき...
CMP用の治具などの消耗品の現地調達率は現在約50%だが、これを引き上げる。また真空ポンプと同様、CMPの生産現場でも11年度中に生産革新運動をスタートし、事業全体の利益率向上を目指す。...
日立化成工業はウエハーを研磨するCMPスラリーなどの前工程材料からパッケージ材料などの後工程材料まで、一連の半導体製造工程に対応した技術を紹介した。
