- トップ
- 検索結果
記事検索結果
315件中、8ページ目 141〜160件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.006秒)
フォトマスクは消耗品で消費量が多く、EUV用は高価なため、事業は急成長した。 AGCがEUV用から新規参入したのは、EUV以前のフッ化アルゴン光源露光などとは段違いの性能や品質が求め...
EUV露光装置を手がける蘭ASMLが、露光工程の歩留まり低下を防止する「ペリクル(防塵カバー)」を量産用途のEUV向けで初めて開発した。... ペリクル完成までEUV露光を使用しない方...
東京エレクトロンは8日、ベルギーの研究機関imecと蘭ASMLが共同で運営するオランダの研究所「imec―ASML共同高NA EUV研究所」に自社の最先端の塗布現像装置を導入すると発表した。同...
EUV用は少量でも、高価で収益寄与が大きい。素材各社はEUV独特の品質要求に対応し、事業拡大を目指す。... 三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォ...
三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。... ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウを...
特にEUV関連では、最先端の半導体の製造に欠かせないEUVリソグラフィー技術の研究開発が進められてきた。EUVレジストなど基盤技術の開発では欠かせない存在となっている。 ... 渡辺...
半導体の最先端製造プロセスであるEUV(極端紫外線)向け需要は足元で加速している。いいタイミングだ」 ―EUVに求められる材料・技術は。 ... E...
レーザーテックは、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、シェア100%だ。EUV光は欠陥の検出感度が高いのが特徴だ。 ...
半導体材料事業については極端紫外線(EUV)、液浸フッ化アルゴン(ArF)向けリソグラフィー材料を四日市工場(三重県四日市市)で増産。
同設備では、液浸フッ化アルゴン(ArF)や極端紫外線(EUV)プロセス向けレジストを生産する。... EUVレジストも採用が決まり、顧客の生産計画に合わせて出荷が増える...
極端紫外線(EUV)露光用レジスト原料の事業が成長し始めた。 ... 次世代のEUV市場拡大を見据え、「ArFもEUVも両方できるよう体制を整えた」という。 ...
特に需要が高まっているのが、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、同社が100%のシェアを持つ。従来EUV露光用マスクの検査では、主...
EUVを用いたリソグラフィ技術に関しても、需要増が見込まれる。 ... FFEMはEUVレジストの開発や生産に向け、今回の検査装置導入を含め計45億円を投資した。... 現在、信越化...
全自動ダイレクトイメージング(DI)露光装置の生産能力を従来比40%増にするほか、敷地内に新工場を建設してマスク検査用極端紫外線(EUV)光源部品の生産体制を構...
(微細化で優れる極端紫外線〈EUV〉露光装置が注目を集めるが)必ずしもEUVで製造した最先端の半導体だけが市場で求められているわけではない。... 同社はEUV露光装置の商用化に唯一成...
一方、コータ・デベロッパ(塗布現像装置)は極端紫外線(EUV)に対応した装置が必要となるなど、付加価値が高まっている」 ―米中貿易摩擦がもたらす影響を...
直江津工場に加え台湾でも、5G普及などで需要拡大が見込まれる極端紫外線(EUV)レジストの生産を始める。 ... EUVレジスト事業を強化する企業が増える中、宮崎秀樹...
EUVレジスト生産開始/基礎化学研究も 住友化学は、第5世代通信(5G)関連素材の事業化を加速する。... 22年度上半期にはEUVレジストの開発・評価体制...
