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記事検索結果
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ボールネジや直動案内など駆動部品は加工室と切り離して上部に設け、スラリー状の切りくずの悪影響を避けた。
1万8000リットルのスラリーが入る大容量タンクを搭載し、作業効率を高めた。... スラリーの投入口はじょうご状になっており入れやすく、こぼれによる汚損を防ぐ。タンク後部にはスラリー散布時の飛散を防ぎ...
NNP技術をCMPスラリーによる半導体回路の研磨メカニズムのシミュレーション(イメージ)に導入し、ナノメートル(ナノは10億分の1)規模で複雑な界面の挙動を可視化。
増設した設備で処理するのは、シリコン切削くずと液体が混ざったスラリー廃液。... アミタHDは2018年から北九州製造所でスラリー廃液の再資源化を始めた。
対策として水を混ぜてスラリー状にして吸引することが多いが、廃棄物処理コストが高くなる原因になっていた。
菊陽町の生産拠点では、1月にも半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産設備を本格稼働した。国内初のCMPスラリー生産設備となり、投資額は約20億円だ。
カーボキャッチで炭酸化したスラリーは、コンクリート配合時に水とセメントの一部に置き換えて使用する。
造成時はイオン濃度の高い固化材スラリーとの接触により吸水している水を排出し、粘性が低下することで地上への排泥排出阻害を抑制。
微粒子はもちろん、スラリー状のCNF表面にあるリン酸基がプロトン伝導機能を持つため相性が良く、膜全体として高い効率の機能を発揮できる。
ゴムの加工に使われるミキシングロールをベースに、ペースト状のスラリーに対応できるように仕様を変更した。 ... 再び水に分散させるとスラリー時の粘性に戻せる特徴を持つ。現在はスラリー...
クボタと栗本鉄工所はリチウムイオン電池(LiB)など二次電池の原料となる電極スラリー向けに、連続式の生産システムを共同開発する。... 今後、電極スラリーの原料の特...
富士フイルムは25日、半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産設備を熊本県菊陽町で本格稼働したと発表した。同社グループとして国内初のCMPスラリー生産設備で、...
富士フイルムはこのほど、後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)の量産を始めた。CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が存在する半導体表面を均一にする研磨剤。... 同社...
例えば、CMP(化学的機械研磨)スラリーは台湾と韓国、日本でも増強。
フォトレジストと現像液、CMPスラリーとポストCMPクリーナーなど隣接領域を組み合わせた提案の成功事例が出ており、こうした提案を強化したい。