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その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン(ArF)レジスト、多層膜材料、極端紫外線(EUV)レジストなどを手がけた。

「現在開発を進めている極端紫外線(EUV)レジストは年内にも量産できるだろう」という。 一方、EUVレジストは同業他社が先行している。

開発中の極端紫外線(EUV)レジストは2021年内にも量産が始まる見通し。

住友化学、韓でフォトレジスト 需要増・BCP対応 (2021/9/1 素材・医療・ヘルスケア)

韓国では、原料を調合してレジストを生産する最終工程を行う。... 大阪工場では既存建屋に液浸ArFと極端紫外線(EUV)レジストの製造設備を増設し、23年度上期に稼働する。... 住友...

富士フ、24年にEUVレジストのシェア10%へ (2021/1/5 素材・医療・ヘルスケア)

富士フイルムは、極端紫外線(EUV)レジスト事業を本格的に立ち上げ、2024年までに世界シェア10%を目指す。... FFEMはEUVレジストの開発や生産に向け、今回の検査装置...

直江津工場に加え台湾でも、5G普及などで需要拡大が見込まれる極端紫外線(EUV)レジストの生産を始める。 ... EUVレジスト事業を強化する企業が増える中、宮崎秀樹...

信越化、日台でフォトレジスト増産 先端半導体向け (2020/10/16 素材・医療・ヘルスケア)

直江津工場で製造するレジスト製品のうち、主力のフッ化アルゴン(ArF)フォトレジストの生産能力が現状比1・3倍、台湾では主力製品である多層レジスト材料の生産能力が同1・5倍となる。.....

1968年には日本初の半導体レジストの製造を開始以来、常に世界半導体レジスト大手メーカーの一角を占め、長年培ってきた高度なフォトリソグラフィ技術や生産管理をベースに、極端紫外線(EUV)...

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