- トップ
- 検索結果
記事検索結果
216件中、1ページ目 1〜20件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.002秒)
そうした声を踏まえ、フッ化アルゴン(ArF)ドライでは生産性に加え、トータルコストの低減を重視する。
半導体メーカーも人手不足が深刻になる中、有効なデータを使うことが重要だ」 【記者の目/ArF投入期待】 23年はパワー半導体、24年はアドバンスドパッケー...
ニコンは24年中に計3機種投入するが、さらに露光の波長別にフッ化アルゴン(ArF)ドライ、フッ化クリプトン(KrF)、i線の3機種の装置を投入。... 26年度までに投...
主流のArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザー液浸露光装置(i―ArF)が延命し、精度向上はもとより処理能力も飛躍的に上がった。つまり、i―ArF多重露光により先端半導...
フッ化アルゴン(ArF)フォトレジスト用感光性ポリマーの設備を2025年10月、極端紫外線(EUV)フォトレジスト用同ポリマーの設備を25年9月に稼働する予定。ArFフ...
フォトレジスト分野でも、液浸ArF(フッ化アルゴン)レジストの新ラインや、先端の分析装置などをそろえる次世代分析開発センターを設けた。
その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン(ArF)レジスト、多層膜材料、極端紫外線(EUV)レジストなどを手がけた。
特にEUV(極端紫外線)などの先端材料が中心になるが、既存のKrfやArfも車載用途で需要が高まっているので積極的に増強していく」 ―石化再編の機運や脱炭素対応の重要...
2ナノメートルノード以細の半導体の量産には、従来主流だったフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源とする露光技術を超える高度な材料選択とプロセス制御の知識が必要になる。
EUV露光プロセスではこれまでのフッ化アルゴン(ArF)液浸など旧来型の露光装置向けと異なり、ペリクルの耐熱性を高める必要があった。
半導体業界の需要は2024年度には回復するとみており、材料の出荷量も増えると考えている」 ―半導体分野では、レジストポリマーは最先端の極端紫外線(EUV)やフッ化アル...
フッ化アルゴン(ArF)などEUVよりも旧世代の光源に多く使われており、自動車や産業機器など幅広い製品に搭載される半導体の製造に用いることから、中長期的な需要拡大が見込まれる。 ...
ArF液浸露光装置の需要が好調だ。... 一方、ArF液浸などEUV以外の露光装置の今期の売上高見通しを引き上げた。... 光源に化合物のフッ化アルゴンを用いたArF液浸露光装置は、EUVより一世代前...
EUVの1世代前「ArF液浸」露光装置も追加。... 東京エレクトロンはEUV用塗布・現像装置を、ニコンがArF液浸露光装置を扱っている。
日本の半導体材料各社は、韓国への投資を積極的に続けており、東京応化工業は22年までに韓国仁川市の拠点を増強し、EUVやフッ化アルゴン(ArF)露光向けを中心にレジストの生産能力を18年...
例えば、EUVより一世代前の「ArF液浸」露光装置はニコンが世界シェアの一角を占める。ArF液浸を複数台利用すればコストはかさむものの、1ケタナノメートル台の半導体が製造可能だ。... EUVやArF...
30年度の売上高倍増に向け、既存事業では精密洗浄サービスの拠点拡充や、フッ化アルゴン(ArF)光源レジスト用ポリマーおよび洗浄用薬剤などの増産を検討。
