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記事検索結果
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NNP技術をCMPスラリーによる半導体回路の研磨メカニズムのシミュレーション(イメージ)に導入し、ナノメートル(ナノは10億分の1)規模で複雑な界面の挙動を可視化。
菊陽町の生産拠点では、1月にも半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産設備を本格稼働した。国内初のCMPスラリー生産設備となり、投資額は約20億円だ。
富士フイルムは25日、半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産設備を熊本県菊陽町で本格稼働したと発表した。同社グループとして国内初のCMPスラリー生産設備で、...
富士フイルムはこのほど、後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)の量産を始めた。CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が存在する半導体表面を均一にする研磨剤。... 同社...
フォトレジストと現像液、CMPスラリーとポストCMPクリーナーなど隣接領域を組み合わせた提案の成功事例が出ており、こうした提案を強化したい。
一連の投資によって、半導体研磨材料(CMPスラリー)のグローバル生産能力を現状比1・5倍に高める。 新工場はCMPスラリーに加え、フォトリソグラフィー周辺材料も生産す...
第1弾として研磨材料(CMPスラリー)をはじめ半導体・電子材料での無機基板と有機分子の相互作用メカニズム解析への活用を始めた。
富士フイルムは半導体製造の後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)を2023年末をめどに市場投入する。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が...
昭和電工マテリアルズは山崎事業所勝田サイト(茨城県ひたちなか市)での半導体集積回路向け平坦化研磨材料(CMPスラリー)の設備投資計画が、茨城県の次世代産業集積・カーボン...
リソグラフィー材料、CMPスラリーや洗浄剤といったプロセス材料、実装材料など幅広い材料開発を手がけ、半導体産業のニーズを全方位でカバーできる体制で取り組んでいる」 ―2021年7月に...
富士フイルムは国内で半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産を始める。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が混在する半導体表面を平坦化するための研磨剤で、半導体製造プ...
昭和電工マテリアルズは1日、約200億円を投じ半導体回路平坦化用研磨材料「CMPスラリー」の生産能力と評価機能を増強すると発表した。... 同社はCMPスラリーで世界シェア2位。....
同社は新たに約200億円を投じ、ウエハー研磨剤(CMPスラリー)の生産能力を従来比2割引き上げることを決めた。
同社は半導体材料メーカーで、多層な半導体の平面研磨(CMP=化学的機械研磨)を行う際の砥粒(とりゅう)として使用されるコロイダルシリカのトップメーカーである。コ...
フォトレジストやCMPスラリー、ポリイミドなど手がけているが、技術力を高めて製品の幅を広げ、より強い推進力にしていきたい」 ―海外売上高比率が60%と高いです。
昭和電工マテリアルズは半導体ウエハー研磨剤(CMPスラリー)やダイボンディング材料、パッケージ基板用銅張積層板など複数の製品で、世界シェアトップ級。20年12月には台湾と韓国でのCMP...
