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キヤノン、新型レンズ採用のi線露光装置 透過率1.2倍 (2024/9/25 電機・電子部品・情報・通信)

また、開口数(NA)の対応幅を拡大。

EUV露光装置に触れられる環境として、imec(ベルギーの国際半導体研究機関)などがある」 ―米インテルに高NA(開口数)のEUV露光装置を納入しまし...

日清紡マイクロ、産機向けコンバーター発売 デジタル信号に変換 (2024/7/23 電機・電子部品・情報・通信2)

日清紡マイクロデバイス(東京都中央区、吉岡圭一社長)は、電圧を周波数に変えるコンバーター(変換器)「NA2100」を発売した。... NA2100は...

次世代EUV露光装置は微細な回路パターンを描くため、光の利用効率が高い高NA(開口数)の技術を採用する。

日清紡マイクロ、5ボルト対応のAFE3種発売 データ測定分解能を向上 (2024/6/25 電機・電子部品・情報・通信2)

2000個購入時の参考単価は、消費税込みで「NA2202」が660円「NA2203」が770円、「NA2204」が880円。

日清紡マイクロ、産業機器向けアナログ回路 センサー設計工数減 (2024/6/12 電機・電子部品・情報・通信2)

日清紡マイクロデバイス(AFE、東京都中央区、吉岡圭一社長)は、産業機器向けのアナログ・フロント・エンド(センサーとマイクロコンピューターを結ぶアナログ回路...

同社と大阪大学は、ナトリウムとガリウムを混合した金属溶液に高圧で窒素を注入しGaNを合成する「Naフラックス法」を活用し、大型GaN結晶の成長技術の確立に取り組んでいる。... Naフラックス法では大...

TSMC副社長、蘭ASML製の半導体製造装置は高過ぎる (2024/5/16 電機・電子部品・情報・通信1)

アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したTSMCのケビン・チャン上級副社長はASMLの高NA(開口数)極端紫外線(EUV)露光装置について、「非常に...

NTTテクノクロスなど、AIで姿勢判定 発報 牛の起立困難防ぐ (2024/4/12 電機・電子部品・情報・通信)

アイ・オー・データ機器(金沢市)の防塵・防水対応ネットワークカメラ「TS―NA230WP」を使用する。

パナソニック、洗剤自動投入の縦型全自動洗濯機 6月発売 (2024/4/9 電機・電子部品・情報・通信1)

インバーター制御の全自動洗濯機「NA―FA12V3」など計8機種を発売する。

第66回十大新製品賞/本賞 レーザーテック (2024/2/9 機械・ロボット・航空機)

検出性能を高め、次世代半導体の微細化プロセスと高NA(開口数)EUV露光に対応する。

トッパンフォト、米IBMと2ナノEUVマスク開発で契約 (2024/2/8 電機・電子部品・情報・通信1)

次世代半導体向け高NA(開口数)EUVを含む。

2023年 第66回十大新製品賞 (2024/1/4 十大新製品賞)

従来機種に比べ検出性能を高め、次世代半導体の微細化プロセスと高NA(開口数)EUV露光に対応する。 ...

レーザーテック/独自のEUV光源で欠陥検査 (2023/12/25 新製品フラッシュ2)

従来機に比べ検出性能を高め、次世代半導体の微細化プロセスと高開口数(NA)EUV露光に対応する。

ADEKA、樹脂添加剤を開発 ポリプロピレンの耐久性向上 (2023/12/19 素材・建設・環境・エネルギー1)

ADEKAはポリプロピレン(PP)の耐衝撃性や延伸性などを強化する樹脂添加剤「アデカスタブNA―B99P」を開発し、市場投入した。

レーザーテック、高輝度EUVで欠陥検出 マスク検査装置を受注 (2023/12/12 電機・電子部品・情報・通信1)

従来機種に比べ検出性能を高め、次世代半導体の微細化プロセスと高開口数(NA)EUV露光に対応する。... A300は従来型のEUV露光に加え、X・Y方向で投影倍率が異なるアナモルフィッ...

ホシザキ、自然冷媒の製品拡充 横型冷蔵庫などに採用 (2023/11/29 機械・ロボット・航空機2)

価格は幅1500ミリメートルの冷蔵庫「RT―150SNG―NA=写真」が88万5000円(消費税抜き)から。

祖先がん幹細胞は、ナトリウム(Na)イオンを細胞外に排出しカリウム(K)イオンを取り込むNa―Kポンプを保護する細胞膜たんぱく質を強く発現する。そこで、Na―Kポンプ阻...

独自開発した加工対象物(ワーク)の外観を非接触で測定・解析する「e―na(イーナ)」の普及に力を入れる。

ファイルいい話/ニイガタマシンテクノ ワーク測定システム (2023/11/2 機械・ロボット・航空機1)

大型鋳物切削で受注増 ニイガタマシンテクノ(新潟市東区、田村幸夫社長)は、4月に発売した加工対象物(ワーク)測定・解析システム「e―na(イー...

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